[發明專利]由胺和氧化胺引發的合成烷基次膦酸的方法

有效

• 申請號: 200880014795.4
• 申請日: 2008-04-30
• 公開（公告）號: CN101675064A
• 公開（公告）日: 2010-03-17
• 發明（設計）人: D·芬休爾特;R·索爾伯格;F·斯塔爾福斯;C·斯文森;J·瓦克特梅斯特;T·萬曼
• 申請（專利權）人: 阿斯利康（瑞典）有限公司
• 主分類號: C07F9/30
• 分類號: C07F9/30
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 龐立志;李平英

技術領域

本發明涉及從烷基鹵合成烷基次膦酸的新方法。

背景技術

先前，由下述文獻已知烷基鹵和次磷酸(hypophosphorous?acid)衍 生物，雙(三甲基甲硅烷基)次磷酸酯(hypophosphite)，之間的反應： K.Issleib?et?al.，Z.anorg.Allg.Chem.530(1985)，pp.16-28。

在次磷酸和烯烴之間的自由基引發反應公開在下述文獻中： Deprèle，S.，et?al，J.Org.Chem.，2001，66，6745-6755。該反應是將次磷 酸酯自由基添加到烯烴并且自由基反應由三烷基硼烷和氧氣來引發。

Winqvist?A.，et?al.，Eur.J.Org.Chem.，2002，1509-1515，尤其描述 了從烷基鹵和雙(三甲基甲硅烷基)次磷酸酯合成次膦酸(phosphonic acid)。該出版物描述了在反應期間溫度的影響。

WO?01/41743公開了(氨丙基)甲基次膦酸和其由受保護的氨基丙 基鹵和次磷酸衍生物開始的合成方法。

US?2,724,718和US?4,632,741公開了在光引發劑的存在下借助于 用UV光的輻照通過次磷酸鹽(hypophosphite?salt)自由基添加到烯烴 來合成次磷酸鹽(phosphinate?salt)。

EP?1055676公開了使用烯烴通過自由基引發的反應制備二烷基 次膦酸的方法。

在合適的自由基引發劑的集合中的許多引發劑需要用于引發反 應的熱量添加。此外，氧氣可被用作自由基反應的引發劑。然而，一 些次磷酸衍生物是自燃的并且因此在大規模生產中氧氣不是合適的 引發劑。一種這樣的實例是次磷酸衍生物雙(三甲基甲硅烷基)次磷酸 酯。

化學自由基引發劑將可能引發烷基鹵和次磷酸衍生物之間的反 應。最通常地，當使用這樣的引發劑時，通過提高反應混合物的溫度 來開始反應。然而，對于減少副產物的量來說，溫度也是關鍵參數， 溫度越低，副產物的數量越少。降低溫度的缺點是在低溫下還降低了 反應速率，這對于期望產物的結果和收率來說有影響。因此，需要一 種方法，其中保持了低的所獲得的副產物的量，同時具有快速的且有 效率的反應速率。

WO?2006/038870公開了在烷基次膦酸的形成中UV-光能夠催化 烷基碘和BTHP之間的反應。UV-光的使用在實驗室規模上是適宜的， 但是已經證明難于發現在較大規模上的可行的技術解決方案。

發明內容

本發明涉及在胺和氧化胺的存在下從烷基鹵和次磷酸衍生物開 始合成烷基次膦酸的新方法。

更具體地說，本發明涉及一種用于合成下式I的化合物的方法

其中

R¹選自氫；C₁-C₁₀-烷基；C₁-C₁₀-烷氧基；氟；和氯；

R²選自羥基；氟；氯；氧代；和C₁-C₁₀-烷氧基；

R³選自氫和C₁-C₆-烷基；

R⁴選自氫和C(O)R⁵；

R⁵選自C₁-C₁₀烷基和C₁-C₁₀烷氧基；

其包括在胺和氧化胺的存在下使以下物質反應：下式II的化合物

R⁶選自氫；C₁-C₁₀-烷基；C₁-C₁₀-烷氧基；氟；和氯；

R⁷選自羥基；氟；氯；氧代；和C₁-C₁₀-烷氧基；

R⁸選自氫和C₁-C₆-烷基；

R⁹選自氫和C(O)R¹⁰；