[發(fā)明專利]光敏性樹脂組合物、光敏性元件、抗蝕劑圖案的形成方法及印刷電路板的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880014248.6
• 申請(qǐng)日: 2008-05-08
• 公開（公告）號(hào): CN101675388A
• 公開（公告）日: 2010-03-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤邦明;吉野利純;大川昌也;日高敬浩;立木秀康
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日立化成工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/031
• 分類號(hào): G03F7/031;G03F7/004;G03F7/027;H05K3/06;H05K3/18
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 鐘 晶

1.一種光敏性樹脂組合物，含有：

(A1)由作為下述通式(6)表示的雙酚型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧樹脂(a)與 含乙烯基單羧酸(b)反應(yīng)而得到的酸改性含乙烯基環(huán)氧樹脂；

(A2)由作為下述通式(5)表示的酚醛清漆型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧樹脂(a) 與含乙烯基單羧酸(b)反應(yīng)而得到的酸改性含乙烯基環(huán)氧樹脂；

(B)包含由下述式(9)表示的1，2-辛烷二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基]-2- (O-苯甲酰基肟)的光聚合引發(fā)劑；

(C)增敏劑，所述增敏劑包含由下述式(10)表示的7，7’-二(二乙基氨 基)-3-酮-香豆素或由下述式(17)表示的化合物；

(G)作為固化劑的雙酚F型環(huán)氧樹脂，

式(5)中R¹¹表示氫原子或甲基，Y¹表示氫原子或縮水甘油基，這里 氫原子/縮水甘油基的摩爾比為0/100～30/70，n1表示1以上的整數(shù)；另外 所存在的多個(gè)R¹¹和Y¹可以各自相同也可以不同；

式(6)中R¹²表示氫原子或甲基，Y²表示氫原子或縮水甘油基，這里， 氫原子/縮水甘油基的摩爾比為0/100～30/70，n2表示1以上的整數(shù)；另外， 所存在的多個(gè)R¹²和Y²可以各自相同也可以不同；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光敏性樹脂組合物，進(jìn)一步含有(D)具有硫醇 基的化合物。

3.一種光敏性元件，具有支持體以及在該支持體上形成的由權(quán)利要求1 或2所述的光敏性樹脂組合物形成的光敏性樹脂組合物層。

4.一種抗蝕劑圖案的形成方法，包括：

層積工序，將由權(quán)利要求1或2所述的光敏性樹脂組合物形成的光敏性樹 脂組合物層層積到基板上；

曝光工序，對(duì)所述光敏性樹脂組合物層以圖像狀照射活性光線使曝光部進(jìn) 行光固化；

顯影工序，通過(guò)顯影除去所述光敏性樹脂組合物層的未曝光部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗蝕劑圖案的形成方法，所述曝光工序?yàn)橥ㄟ^(guò) 波長(zhǎng)405nm的激光對(duì)所述光敏性樹脂組合物層進(jìn)行直接描繪曝光而使曝光部 進(jìn)行光固化的工序。

6.一種印刷電路板的制造方法，對(duì)通過(guò)權(quán)利要求4或5所述的抗蝕劑圖 案的形成方法形成有抗蝕劑圖案的電路形成用基板進(jìn)行蝕刻或鍍覆。