[發(fā)明專利]用于確定離子束輪廓的方法和系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880014181.6
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101675494A
• 公開（公告）日: 2010-03-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 邁克爾·葛雷夫;約翰·葉;波·凡德爾貝格;邁克爾·克里斯托弗羅;黃永章
• 申請（專利權(quán)）人: 艾克塞利斯科技公司
• 主分類號: H01J37/244
• 分類號: H01J37/244;H01J37/317
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

1.一種用于確定離子束輪廓的設(shè)備，包括：

具有測量區(qū)的電流測量裝置，其中，所述離子束的橫截面區(qū)域進 入所述測量區(qū)；

束改變裝置，被配置為調(diào)整進入所述測量區(qū)的所述離子束的橫截 面區(qū)域，

其中，所述束改變裝置包括物體，所述物體被配置為至少部分阻 擋進入所述測量區(qū)的所述離子束的橫截面區(qū)域，

其中，所述物體以周期性的間隔并以類似鐘擺的方式移動；以及

控制器，被配置為周期性地對所述離子束進行束電流測量，并通 過將所述束電流測量與所述電流測量裝置內(nèi)的子區(qū)相關(guān)來確定所述離 子束的二維輪廓。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述子區(qū)是數(shù)學構(gòu)造。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述電流測量裝置包括 至少一個法拉第杯。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述子區(qū)以至少實質(zhì)上 類似柵格的方式來布置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備通過重復確定 束輪廓來執(zhí)行對束輪廓的實時監(jiān)測。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，在工件的注入期間執(zhí)行 實時輪廓確定。

7.一種用于確定離子束的二維束輪廓的方法，包括

將所述離子束導向具有測量區(qū)的電流測量裝置；

改變進入所述測量區(qū)的所述離子束的橫截面區(qū)域；

其中，改變進入所述測量區(qū)的所述離子束的橫截面區(qū)域包括：使 用物體至少部分阻擋所述離子束的橫截面區(qū)域，從而建立所述離子束 的未被阻擋的部分和所述離子束的被阻擋的部分，

其中，所述物體以類似鐘擺的振蕩方式往復多次穿過所述離子束 而移動，其中所述物體阻擋所述離子束的長度在至少兩次振蕩之間改 變；以及

通過在進入所述測量區(qū)的所述離子束的橫截面區(qū)域改變時周期 性地進行束電流測量，并將所述束電流測量與所述測量區(qū)內(nèi)的子區(qū)相 關(guān)來確定所述二維束輪廓。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述方法還包括：

通過周期性地進行束電流測量來檢查總束電流是否保持恒定，在 所述物體未阻擋所述離子束時執(zhí)行驗證。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，將未被阻擋的子區(qū)與所 述未被阻擋的部分相關(guān)聯(lián)，將被阻擋的子區(qū)與所述被阻擋的部分相關(guān) 聯(lián)，并且被部分阻擋的至少一個子區(qū)位于所述未被阻擋的子區(qū)之一與 所述被阻擋的子區(qū)之一之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，作為所述物體的旋轉(zhuǎn)角 度的函數(shù)，進行束電流測量。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，作為所述物體的平移距 離的函數(shù)，進行束電流測量。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，作為所述物體的平移距 離和所述物體的旋轉(zhuǎn)角度兩者的函數(shù)，進行束電流測量。