[發(fā)明專利]微光刻曝光裝置中照明掩模的照明系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880013453.0
• 申請日: 2008-04-25
• 公開（公告）號: CN101669071A
• 公開（公告）日: 2010-03-10
• 發(fā)明（設計）人: 馬庫斯·德岡瑟;保羅·格勞普納;于爾根·費希爾
• 申請（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT股份公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 邱 軍

1.一種微光刻曝光裝置中照明掩模(16)的照明系統(tǒng)，包括：

a)光軸(60；460)，

b)光瞳表面(70；470)，

c)反射或透明光束偏轉(zhuǎn)元件(M_ij)的光束偏轉(zhuǎn)陣列(46；446)，其中

-每一個偏轉(zhuǎn)元件(M_ij)適配，以將打入光線偏轉(zhuǎn)一偏轉(zhuǎn)角，所述偏轉(zhuǎn) 角是響應于控制信號而可變的，并且其中

-偏轉(zhuǎn)元件(M_ij)至少大體上布置在第一平面(40；440)中，

d)光學光柵元件(34；434)，其

-包括多個微透鏡和/或衍射結(jié)構(gòu)，并且

-被布置在第二平面(34；434)中，

其中，光束偏轉(zhuǎn)陣列(46；446)以及光學光柵元件(34；434)共同產(chǎn) 生兩維遠場強度分布(C)，其特征在于

使得第一平面(40；440)與第二平面(34；434)光學共軛的光學成像 系統(tǒng)(40，41；440，441)。

2.如權(quán)利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，兩維遠場強度分布(C) 是光束偏轉(zhuǎn)陣列(46；446)所產(chǎn)生的遠場強度分布(D’_ij)和光學光柵元件 (34；434)所產(chǎn)生的遠場強度分布(D_ij)的卷積。

3.如權(quán)利要求1或2所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，光學光柵元件(34； 434)包括多個域(Z_ij)，其中每一個域通過光學成像系統(tǒng)(40，41；440， 441)產(chǎn)生的光學共軛與光束偏轉(zhuǎn)陣列(46；446)中的至少一個光束偏轉(zhuǎn)元 件(M_ij)相關聯(lián)，并且其中至少兩個域(Z_ij)產(chǎn)生不同的遠場強度分布(D_ij)。

4.如權(quán)利要求2所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，每一光束偏轉(zhuǎn)元件(M_ij) 配置為處于“開啟”狀態(tài)或“關斷”狀態(tài)，其中確定“開啟”狀態(tài)以便經(jīng)偏 轉(zhuǎn)的光束通過光瞳表面(470)，并且其中確定“關斷”狀態(tài)以便經(jīng)偏轉(zhuǎn)的光 束不通過光瞳表面(470)。

5.如權(quán)利要求3所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，確定由多個域(Z_ij) 產(chǎn)生的遠場強度分布以便如果全部光束偏轉(zhuǎn)元件(M_ij)處于“開啟”狀態(tài)則 至少照明光瞳表面(470)的可用區(qū)域的70％。

6.如權(quán)利要求3所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，至少兩個域(Z_ij)中 的每一個產(chǎn)生至少大體上成具有n個角的多邊形形狀的遠場強度分布(D_ij)， n≠4。

7.如權(quán)利要求6所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，所述多邊形具有不同 的角取向。

8.如權(quán)利要求3所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，由多個第一域(Z₁₁至 Z₃₆)產(chǎn)生的遠場強度分布(圖13中D₁₁至D₃₆)是第一正六邊形，以及由多 個第二域(Z₄₁至Z₆₆)產(chǎn)生的遠場強度分布(D₄₁至D₆₆)是通過旋轉(zhuǎn)第一正 六邊形30°所獲得的第二正六邊形。

9.如權(quán)利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，第一平面(40；440) 是光學成像系統(tǒng)(40，41；440，441)的物平面，以及第二平面(34；434) 是所述光學成像系統(tǒng)的像平面。

10.如權(quán)利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于第二平面(34；434) 是所述光學成像系統(tǒng)的物平面，以及第一平面(40；440)是所述光學成像 系統(tǒng)(40，41；440，441)的像平面。

11.如權(quán)利要求1所述的照明系統(tǒng)，其特征在于，至少大體上平的折疊 鏡(41；442)布置在所述光學成像系統(tǒng)(40，41；440，441)中。