[發明專利]采用近場光對信息記錄介質進行數據記錄和/或再現的裝置及方法、以及信息記錄介質有效
| 申請號: | 200880013301.0 | 申請日: | 2008-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN101669170A | 公開(公告)日: | 2010-03-10 |
| 發明(設計)人: | 鳴海建治;尾留川正博 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/085 | 分類號: | G11B7/085;G11B7/125;G11B7/09;G11B7/135 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 近場 信息 記錄 介質 進行 數據 再現 裝置 方法 以及 | ||
技術領域
本發明涉及采用近場光對信息記錄介質進行數據記錄和/或再現的裝置以及方法、在這樣的裝置以及方法中采用的信息記錄介質。?
背景技術
作為針對光盤介質可更高密度地進行數據記錄以及再現的方式,提出了采用近場光的技術。?
近年來,作為用于產生近場光的聚光單元被關注的是組合了聚光透鏡和固體浸沒透鏡(以下稱為SIL)的光學系統。通過這些的組合,可實現比聚光透鏡的NA(數值孔徑)高的數值孔徑。如果提高光學系統的數值孔徑則能夠縮小點的尺寸,從而能夠進行更高密度的記錄。?
在采用了SIL的記錄再現動作時,要求SIL與光盤介質表面之間的距離非常接近。在DVD(Digital?Versatile?Disc)等光學系統中,物鏡與光盤介質表面之間的距離約為1mm,但在采用SIL的情況下,SIL的射出面與光盤介質表面之間的距離約為100nm以下。當SIL與光盤介質表面之間的距離發生變動時,有可能近場光沒有到達光盤介質表面或者SIL與光盤介質發生沖突。因此,需要控制SIL與光盤介質表面之間的距離保持一定。?
為了實現這樣的控制而提出被稱為間隙伺服(gap?servo)的方法。在專利文獻1所公開的方法中,對來自基于近場光的光盤介質的反射光中特定的偏振光成分的光量進行檢測,并利用調節器(actuator)能動地調整聚光透?鏡以及SIL的光軸方向的位置,使該光量成為恒定值。由此來控制SIL與光盤介質表面之間的距離(即間隙)。?
但是,在啟動記錄再現裝置并插入光盤之后、對信息進行記錄再現之前,需要開始SIL與光盤表面的間隙的控制。上述動作在以DVD為主的現有光盤介質中相當于開始聚焦控制的動作。?
在現有的光盤介質中,在聚焦控制開始時使盤旋轉是顯然的。這是因為,當盤處于停止狀態時,會聚的激光持續照射到盤記錄層的特定位置上,從而導致在局部加熱的該特定部分刪除了已記錄的信息,或者使記錄層及其它薄膜層惡化。?
但是,如上所述,控制了間隙后的SIL與光盤介質表面之間的距離必需接近100nm以下。關于從SIL與光盤介質表面充分相離的狀態(或接觸的狀態)開始沿著光軸方向移動SIL、且保持100nm以下的距離需要極精確的動作。在進入動作的瞬間,即使SIL的動作很小也存在過沖(overshoot)及下沖(undershoot),因此SIL有可能與光盤介質表面發生沖突。?
因此優選的是,在進入控制間隙的動作的瞬間,預先盡量去除干擾要因。當盤旋轉時,由于盤的面抖動及表面的凸凹而使盤在光軸方向上的表面位置隨著時間發生變動。這對于控制動作來說成為干擾,所以考慮在盤停止的狀態下開始控制的情況。在專利文獻2中公開了在盤停止的狀態下控制SIL與盤表面的間隙的方法。在此方法中,通過檢測SIL與盤表面之間的靜電容量來控制間隙,所以不需要為了控制而將激光照射到盤表面。【專利文獻1】國際公開第03/021583號小冊子【專利文獻2】日本特開2001-23284號公報?
但是,在上述方法中存在如下這樣的課題。?
在專利文獻1所記載的例子中存在如下這樣的課題:當在盤旋轉的狀態下開始間隙伺服時,由于盤的面抖動及表面的凸凹,而導致SIL容易與盤表面發生沖突。但是,假設當在盤停止的狀態下開始間隙伺服時,如上所述有可能在局部被加熱的記錄層的特定部分刪除已記錄的信息,或者使記錄層及其它薄膜層惡化。
另外還有這樣的情況:由于在這樣惡化的特定部分反射率等特性及薄膜層等形狀發生變化,所以在開始下一間隙伺服時,即使對該特定部分照射激光進行間隙伺服,也無法正常地進行間隙伺服。
在專利文獻2記載的例子中有如下的課題:為了檢測靜電容量而需要對SIL設置電極,所以光頭的結構變得復雜,且裝置的制造成本提高。
發明內容
本發明是鑒于上述課題而創造的,其利用簡單的結構來實現沒有無意圖地刪除已記錄信息的情況的間隙伺服。另外,本發明提供了即使在之前的間隙伺服開始時的激光照射位置上發生惡化的情況下也能夠正常進行新的間隙伺服的裝置以及方法。
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