[發明專利]光催化性材料以及使用了該材料的光催化性部件的凈化裝置有效
| 申請號: | 200880012345.1 | 申請日: | 2008-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN101657258A | 公開(公告)日: | 2010-02-24 |
| 發明(設計)人: | 谷口昇;黑羽智宏;德滿修三;德弘憲一 | 申請(專利權)人: | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號: | B01J35/02 | 分類號: | B01J35/02;A61L9/20;A61L9/00;A61L9/01;B01J27/135 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 白 麗;陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光催化 材料 以及 使用 部件 凈化 裝置 | ||
1.一種光催化性材料,其含有至少包含銳鈦礦型氧化鈦和氟的氧化鈦 光催化劑、以及沸石,其特征在于,
所述氧化鈦光催化劑中的所述氟的含量為2.5重量%~3.5重量%,且所 述氟的90重量%以上與所述銳鈦礦型氧化鈦發生化學鍵合,
所述氧化鈦光催化劑是通過下述制造方法制造的,該制造方法包含下 述工序:
將正丁基胺的吸附量為8μmol/g以下的銳鈦礦型氧化鈦的水分散液和 氟化合物混合,制備含有氧化鈦和氟且pH為3以下的混合液,使所述氧化 鈦與所述氟發生反應;和將所述反應得到的反應物洗滌。
2.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,所述沸石含有絲光型 沸石和ZSM-5型沸石中的至少一者。
3.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,所述沸石含有二氧化 硅和氧化鋁,且所述沸石中的所述二氧化硅與所述氧化鋁的摩爾成分比以 二氧化硅/氧化鋁計為240以上。
4.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,所述氟的100重量% 與所述銳鈦礦型氧化鈦發生化學鍵合。
5.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,所述化學鍵合為離子 鍵合。
6.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,與所述銳鈦礦型氧化 鈦發生化學鍵合的所述氟的至少一部分配置在所述銳鈦礦型氧化鈦的表 面。
7.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,將所述氧化鈦光催化 劑中的鈉的含量設為A重量%,將所述氧化鈦光催化劑中的所述氟的含量 設為B重量%時,其比值A/B為0.01以下。
8.根據權利要求1所述的光催化性材料,其中,所述光催化性材料中 的所述沸石的含量為10重量%以上。
9.一種光催化性部件,其含有基材和形成在所述基材的表面上的光催 化劑層,其特征在于,所述光催化劑層含有權利要求1~8中任一項所述的 光催化性材料。
10.根據權利要求9所述的光催化性部件,其中,所述基材為具有透 氣性的基材。
11.一種凈化裝置,其含有權利要求9所述的光催化性部件和對所述 光催化性部件照射400nm以下波長的光的光源。
12.根據權利要求11所述的凈化裝置,其進一步具備向所述光催化性 部件導入含有有機物的氣體的送氣機構。
13.一種光催化性材料,其含有至少包含銳鈦礦型氧化鈦和氟的氧化 鈦光催化劑、以及沸石,其特征在于,
所述氧化鈦光催化劑中的所述氟的含量為2.5重量%~3.5重量%,且所 述氟的90重量%以上與所述銳鈦礦型氧化鈦發生化學鍵合,
所述氧化鈦光催化劑是通過下述制造方法制造的,該制造方法包含下 述工序:
將氧化鈦的水性分散液用堿性溶液調節至pH為7.5~9.5的范圍,然后 過濾;
使所述過濾得到的過濾物在水中再分散;
在所述再分散得到的再分散液中加入氟化合物而獲得懸浮液后,使用 酸將所述懸浮液的pH調節至3以下,由此使所述氧化鈦與所述氟化合物發 生反應;和
將所述反應得到的反應物進行洗滌。
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