[發明專利]光學片以及使用該光學片的光源無效
| 申請號： | 200880010444.6 | 申請日： | 2008-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN101652680A | 公開（公告）日： | 2010-02-17 |
| 發明（設計）人： | 島崎俊勝;手島照雄;田谷昌人;佐藤誠 | 申請（專利權）人： | 日立化成工業株式會社 |
| 主分類號： | G02B3/00 | 分類號： | G02B3/00;F21V8/00;G02B3/06;G02B5/02;G02B5/04;G02F1/1335;G02F1/13357;F21Y103/00 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 | 代理人： | 雒純丹 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 以及 使用 光源 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學片，其特征在于，在基材正面形成有棱鏡結構、透鏡結構、雙凸透鏡結構中的至少一種結構，在基材背面形成具有周期性排列的形狀，基材背面形狀的周期性與基材正面的周期性是大致相同的周期。
2.根據權利要求1記載的光學片，其中，所述基材正面形狀和基材背面形狀的周期性為40～50μm。
3.根據權利要求2記載的光學片，其中，所述基材正面形狀和基材背面形狀的周期性為44～48μm。
4.一種光學片，其特征在于，在基材正面形成有棱鏡結構、透鏡結構、雙凸透鏡結構中的至少一種結構，在基材背面形成具有周期性排列的形狀，基材背面形狀的周期性為20μm以下。
5.根據權利要求4記載的光學片，其中，所述基材正面形狀的周期性為40～50μm。
6.根據權利要求5記載的光學片，其中，所述基材正面形狀的周期性為44～48μm。
7.配置有權利要求1～6的任一項記載的光學片和導光體的光源。
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