[發明專利]用于生產在碳電極生產中使用的碳糊的系統和方法無效
| 申請號: | 200880008575.0 | 申請日: | 2008-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN101636650A | 公開(公告)日: | 2010-01-27 |
| 發明(設計)人: | J·N·布魯格曼;A·亞當;D·科勒曼;R·A·小布雷克 | 申請(專利權)人: | 美鋁公司 |
| 主分類號: | G01N15/02 | 分類號: | G01N15/02;G06T7/00;G01N21/84;H05B7/09 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 李鎮江 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 生產 電極 使用 系統 方法 | ||
1.一種用于分析碳膏的方法,所述方法包括以下步驟:
混合顆粒碳質材料與碳質粘結劑,由此產生碳糊;
獲得所述碳糊的圖像;
基于所述圖像產生圖像特征數據;和
分析所述圖像特征數據,由此確定所述碳膏的特征。
2.根據權利要求1所述的方法,進一步包括:調節與所述碳糊的生產相關聯的操作參數,所述操作參數包括顆粒材料進給速率、粘結劑進給速率和粒子尺寸分布中的至少一種。
3.根據權利要求1-2中任何一項所述的方法,其中所述圖像特征數據包括與糊劑粒子尺寸和糊劑粒子形狀中的至少一個有關的數據。
4.根據權利要求1-3中任何一項所述的方法,其中所述獲得步驟包括:利用成像裝置。
5.根據權利要求4所述的方法,其中所述成像裝置是數字照相裝置。
6.根據權利要求1-5中任何一項所述的方法,其中所述生產步驟包括:
自動地分析所述圖像并且輸出所述圖像特征數據。
7.根據權利要求6所述的方法,其中所述分析步驟包括:
比較所述圖像特征數據與歷史操作數據。
8.根據權利要求7的方法,進一步包括:
響應于所述比較步驟調節與所述碳糊的生產相關聯的操作參數。
9.根據權利要求1-8中任何一項所述的方法,進一步包括:
與所述獲得圖像的步驟相伴隨地朝向所述碳糊引導光。
10.根據權利要求9所述的方法,其中所述光包括從大約280nm到大約1,000nm的波長。
11.根據權利要求1-10中任何一項所述的方法,其中所述分析步驟包括:
至少部分地基于所述圖像特征數據推導糊劑預測模型;和
利用所述糊劑預測模型輸出至少一個所預測的糊劑參數。
12.根據權利要求1-11中任何一項所述的方法,其中所述碳質粘結劑包括瀝青。
13.一種用于制造在生產碳質電極中使用的碳糊的系統,所述系統包括:
適于容納碳糊的混合罐;和
糊劑控制系統,包括:
能夠被操作用于獲得所述碳糊的圖像的成像裝置;
能夠被操作用于處理所述圖像并且輸出圖像特征數據的圖像處理器;
能夠與所述圖像處理器相互電連接并且能夠被操作用于分析所述圖像特征數據和輸出所預測到的糊劑參數的數據分析器;和
用于指示是否基于所述糊劑預測參數和圖像特征數據中的至少一個調節糊劑生產條件的指示器。
14.根據權利要求13的所述系統,其中所述預測糊劑參數是瀝青在所述碳糊中的預測百分比。
15.根據權利要求13-14中任何一項所述的系統,其中所述圖像是二進制格式。
16.根據權利要求13-15中任何一項所述的系統,其中所述成像裝置包括數字照相裝置。
17.根據權利要求16所述的系統,其中所述數字照相裝置包括所述圖像處理器。
18.根據權利要求13-17中任何一項所述的系統,其中所述糊劑控制系統包括:
適于朝向所述碳糊引導光的光源。
19.根據權利要求18所述的系統,其中所述光包括從大約280nm到大約1,000nm的波長。
20.根據權利要求13-19中任何一項所述的系統,其中所述預測糊劑參數包括與糊劑粒子尺寸和糊劑粒子形狀中的至少一個有關的數據。
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