[發明專利]蒸鍍材料及利用該材料制得的光學薄膜有效
| 申請號： | 200880007708.2 | 申請日： | 2008-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN101636518A | 公開（公告）日： | 2010-01-27 |
| 發明（設計）人： | 高橋修平;小坂金雄;岡田均 | 申請（專利權）人： | 富士鈦工業株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 李 帆 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 材料 利用 光學薄膜 | ||
【權利要求書】：
1.蒸鍍材料，其特征在于，包含鈮及鑭的二元系氧化物，該鈮和鑭的摩爾比為25∶75～90∶10。
2.蒸鍍材料，其包含a)鈮及鑭的二元系氧化物和b)金屬鈮及/或金屬鑭，其特征在于，該蒸鍍材料中的鈮和鑭的摩爾比為25∶75～90∶10。
3.權利要求1或2所述的蒸鍍材料，其中，鈮和鑭的摩爾比為35∶65～60∶40。
4.權利要求1或2所述的蒸鍍材料，其中，所述蒸鍍材料為燒結體或者熔融體。
5.權利要求3所述的蒸鍍材料，其中，所述蒸鍍材料為燒結體或者熔融體。
6.權利要求1或2所述的蒸鍍材料，其中，氧化鑭的含有率為5重量％以下。
7.權利要求3所述的蒸鍍材料，其中，氧化鑭的含有率為5重量％以下。
8.權利要求4所述的蒸鍍材料，其中，氧化鑭的含有率為5重量％以下。
9.權利要求5所述的蒸鍍材料，其中，氧化鑭的含有率為5重量％以下。
10.光學薄膜的制造方法，其特征在于，使用權利要求1～9任一項所述的蒸鍍材料，通過真空蒸鍍法形成。
11.權利要求10所述的光學薄膜的制造方法，其中，真空蒸鍍法為電子束蒸鍍法。
12.權利要求11所述的光學薄膜的制造方法，其中，在成膜中固定電子束的照射位置。
13.光學薄膜，其通過權利要求10～12任一項所述的制造方法得到。
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