[發明專利]用于制造只讀光盤介質的方法和只讀光盤介質

無效

• 申請號: 200880003602.5
• 申請日: 2008-12-08
• 公開（公告）號: CN101595525A
• 公開（公告）日: 2009-12-02
• 發明（設計）人: 坂本哲洋;中野淳;朝比奈隆行;芝崎悅男;河內秀夫
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G11B7/007
• 分類號: G11B7/007;G11B7/0045;G11B7/24;G11B7/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 秦 晨

1.一種只讀光盤介質的制造方法，其特征在于包括用于根據第 一調制信號在信息記錄表面上形成凹凸形狀的成形工序、以及用于使 用反射膜覆蓋該信息記錄表面的沉積工序，并且，其特征在于在所述 成形工序中形成記錄軌道，在該記錄軌道中凹凸形狀作為由凹坑和平 臺形成的第一記錄數據序列設置，

其中，該制造方法在所述沉積工序之后還包括：

用于在記錄軌道的一部分中設置附加信息記錄區域的工序，在記 錄軌道中第一記錄數據序列在成形工序中由凹坑和平臺形成，附加信 息記錄區域與該平臺處于同一平面；以及

用于在附加信息記錄區域中由穿孔標記形成第二記錄數據序列 的工序，所述穿孔標記是通過根據第二調制信號擦除或減少反射膜來 形成的，并且

其中，第一記錄數據序列的形成和第二記錄數據序列的形成這樣 被執行，使得當激光被施加到第一記錄數據序列和第二記錄數據序列 上時，通過在形成第二記錄數據序列的工序中調整通過擦除或減少反 射膜形成的穿孔標記的寬度和/或長度，或者通過在成形工序中調整凹 坑的寬度和/或長度，使第一記錄數據序列中的再現信號振幅的最小電 平和第二記錄數據序列中的再現信號振幅的最小電平相等。

2.根據權利要求1所述的只讀光盤介質的制造方法，其特征在 于，形成第一記錄數據序列的信息數據調制方法與形成第二記錄數據 序列的信息數據調制方法相同。

3.一種只讀光盤介質的制造方法，其特征在于包括用于根據第 一調制信號在信息記錄表面上形成凹凸形狀的成形工序、以及用于使 用反射膜覆蓋該信息記錄表面的沉積工序，并且，其特征在于在所述 成形工序中形成記錄軌道，在該記錄軌道中凹凸形狀作為由凹坑和平 臺形成的第一記錄數據序列設置，

其中，該制造方法在所述沉積工序之后還包括：

用于在記錄軌道的一部分中設置附加信息記錄區域的工序，在記 錄軌道中第一記錄數據序列在成形工序中由凹坑和平臺形成，附加信 息記錄區域與該平臺處于同一平面；以及

用于在附加信息記錄區域中由穿孔標記形成第二記錄數據序列 的工序，所述穿孔標記是通過根據第二調制信號擦除或減少反射膜來 形成的，并且

其中，第一記錄數據序列的形成和第二記錄數據序列的形成這樣 被執行，使得當激光被施加到第一記錄數據序列和第二記錄數據序列 上時，通過在形成第二記錄數據序列的工序中調整通過擦除或減少反 射膜形成的穿孔標記的寬度和/或長度，或者通過在成形工序中調整凹 坑的寬度和/或長度，使對應于第一記錄數據序列中的最短凹坑或間隔 的再現信號振幅的中間電平和對應于第二記錄數據序列中的最短標 記或間隔的再現信號振幅的中間電平相等。

4.根據權利要求3所述的只讀光盤介質的制造方法，其特征在 于，形成第一記錄數據序列的信息數據調制方法與形成所述第二記錄 數據序列的信息數據調制方法相同。