[發明專利]調色劑接受組合物無效
| 申請號： | 200880003266.4 | 申請日： | 2008-01-10 |
| 公開（公告）號： | CN101600996A | 公開（公告）日： | 2009-12-09 |
| 發明（設計）人： | X·周;R·J·麥克馬納斯 | 申請（專利權）人： | 惠普發展公司;有限責任合伙企業 |
| 主分類號： | G03G5/10 | 分類號： | G03G5/10 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 李 玲;王 穎 |
| 地址： | 美國得*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 調色 接受 組合 | ||
1.一種電子照相介質(100，200)，其包括：
基底介質(110)；
在所述基底介質(110)的第一側上形成的至少一個次層(120)；和
在所述至少一個次層(120)上形成的圖像接受層(130)；
其中所述圖像接受層(130)包括交聯的樹脂涂層結構。
2.如權利要求1所述的電子照相介質(100，200)，其特征在于，所述至 少一個次層(120)包含5-95重量％的無機顏料。
3.如權利要求1所述的電子照相介質(100，200)，其特征在于，所述圖 像接受層(130)包含交聯的聚氨酯樹脂。
4.如權利要求1所述的電子照相介質(100，200)，其特征在于，所述可 交聯的樹脂涂層結構包含苯乙烯馬來酸酐(SMA)化合物。
5.如權利要求1所述的電子照相介質(100，200)，其特征在于，還包括 與所述基底介質(110)結合的背面支撐層(140)。
6.如權利要求1所述的電子照相介質(100，200)，其特征在于，所述介 質在75度的光澤水平大于90％，在20度的光澤水平大于30％。
7.一種電子照相介質(100，200)，其包括：
基底介質(110)；
在所述基底介質(110)的第一側上形成的至少一個次層(120)，其中所 述至少一個次層(120)包含5-95重量％的無機顏料；和
在所述至少一個次層(120)上形成的圖像接受層(130)；
其中所述圖像接受層(130)包括交聯的樹脂；
所述介質(110)在75度的光澤水平大于90個光澤度單位，在20度的 光澤水平大于30個光澤度單位。
8.如權利要求7所述的電子照相介質(100，200)，其特征在于，所述交 聯的樹脂包含可交聯聚氨酯低聚物或可交聯SMA樹脂中的一種。
9.一種形成電子照相介質(100，200)的方法，其包括：
生產基底介質(110)；和
在所述基底介質(110)的第一側上涂布次層(120)；
在所述次層(120)上沉積圖像接受層(130)；
其中所述圖像接受層(130)包括交聯的樹脂。
10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，還包括在所述基底介質 (110)的第二側上沉積背面支撐層(140)。
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