[實用新型]一種防止單晶爐保護氣體管路泄漏的供氣裝置

無效

• 申請號: 200820302767.X
• 申請日: 2008-11-13
• 公開（公告）號: CN201305647Y
• 公開（公告）日: 2009-09-09
• 發明（設計）人: 何紫平;胥敬東;丁宇翔
• 申請（專利權）人: 湖州新元泰微電子有限公司
• 主分類號: C30B15/00
• 分類號: C30B15/00;F27D7/00;F27D7/02
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所
• 代理人: 劉 楠;程新敏

技術領域

本實用新型涉及一種供氣裝置，特別是一種防止單晶爐保護氣體管路泄漏的供氣裝置。

背景技術

在直拉單晶生長過程中，由于單晶爐體內在加熱融化原料多硅晶塊的過程中會產生一些硅氧化物和雜質的揮發物。這些硅氧化物和雜質的揮發物對硅單晶的生長會生產不利因素，因此需要使用保護性氣體流由上至下貫穿單晶生長的區域，及時地帶走硅氧化物和雜質的揮發物，氬氣是常用的保護性氣體。

現有的供氣裝置是供氣管道通過氣閥開關后分為兩路后，分別與帶流量計的流量調節閥甲和帶流量計的流量調節閥乙連接，帶流量計的流量調節閥甲出口和帶流量計的流量調節閥乙出口分別為單晶爐供氣。在使用過程中發現，帶流量計的流量調節閥甲和帶流量計的流量調節閥乙密封性不太好，有時會出現氬氣管路的泄露現象，由于拉晶時是負壓，因此外界空氣會被吸入管路造成爐內硅料等的氧化。

實用新型內容

本實用新型的目的在于，提供一種防止單晶爐保護氣體管路泄漏的供氣裝置，解決氬氣管路的泄露現象，避免氧氣進入氬氣管路造成拉晶過程中的氧化。

本實用新型的技術方案：一種防止單晶爐保護氣體管路泄漏的供氣裝置，它包括氣閥開關，氣閥開關的入口與供氣管道連接；氣閥開關的出口分為兩路，分別連接流量調節閥甲和流量調節閥乙的進口；流量調節閥甲的出口經流量計甲與單晶爐連接；流量調節閥乙的出口經流量計乙與單晶爐連接。

上述的防止單晶爐保護氣體管路泄漏的供氣裝置中，所述的流量調節閥甲和流量調節閥乙均為薄膜閥。

與現有技術相比，本實用新型將現有技術中使用的帶流量計的流量調節閥分別用技術比較成熟的薄膜流量調節閥和流量計替代后，產生了有益的效果，有效的防止了氬氣管路的泄漏，避免了拉晶過程中的氧化，提高了成品率。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是現有技術的結構示意圖。

附圖中的標記為：1-氣閥開關，2-流量調節閥甲，3-流量調節閥乙，4-流量計甲，5-流量計乙，6-帶流量計的流量調節閥甲，7-帶流量計的流量調節閥乙。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型的防止單晶爐保護氣體管路泄漏的供氣裝置作進一步的詳細說明，但并不作為對本實用新型作任何限制的依據。

現有技術的管路如圖2所示，供氣管道與氣閥開關1的入口連接，氣閥開關1的出口分為兩路，分別與帶流量計的流量調節閥甲6入口和帶流量計的流量調節閥乙7入口連接，帶流量計的流量調節閥甲6出口和帶流量計的流量調節閥乙7出口與單晶爐連接。

本實用新型管路如圖1所示，它包括氣閥開關1，氣閥開關1的入口與供氣管道連接；氣閥開關1的出口分為兩路，分別連接流量調節閥甲2和流量調節閥乙3的進口；流量調節閥甲2的出口經流量計甲4與單晶爐連接；流量調節閥乙3的出口經流量計乙5與單晶爐連接。所述的流量調節閥甲2和流量調節閥乙3均采用薄膜閥。

本實用新型的工作原理：

由于現有技術中使用的帶流量計的流量調節閥出現氣體泄漏，分析其原因是帶流量計的流量調節閥密封技術存在缺陷，因此更換密封技術比較成熟的獨立的流量調節閥和流量計后功能不變，可很好的解決氬氣管路泄漏的問題，避免材料的浪費，提高了產品生產的成品率。