[實用新型]精密測量三維坐標的裝置無效
| 申請號: | 200820300564.7 | 申請日: | 2008-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN201199155Y | 公開(公告)日: | 2009-02-25 |
| 發明(設計)人: | 陳心一;姚云峰;周敬勇;王立德 | 申請(專利權)人: | 成都普羅米新科技有限責任公司 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00;G01C5/00 |
| 代理公司: | 成都虹橋專利事務所 | 代理人: | 蒲敏 |
| 地址: | 610041四川省成都市天*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 精密 測量 三維 標的 裝置 | ||
1.【權利要求1】精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:包括精密支架(4)和精密套筒(8),所述精密支架(4)插入精密套筒(8)內,在所述精密支架(4)上安裝有目標組。
2.【權利要求2】如權利要求1所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述目標組分別是球棱鏡、半球型水準尺墊(3)和水準尺(7)。
3.【權利要求3】如權利要求2所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述球棱鏡是安裝在鋼球(1)內的角錐棱鏡或角偶棱鏡,所述角錐棱鏡或角偶棱鏡的光軸反射中心與鋼球(1)的球心重合。
4.【權利要求4】如權利要求3所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述半球型水準尺墊(3)的半徑與鋼球(1)的半徑相同。
5.【權利要求5】如權利要求3所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述鋼球(1)的直徑大于40mm。
6.【權利要求6】如權利要求1所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述精密支架(4)采用磁性材料制成。
7.【權利要求7】如權利要求1所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述精密支架(4)上設置有通孔(5),所述通孔(5)上部倒角,所述目標組安裝在所述通孔(5)上。
8.【權利要求8】如權利要求1所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述精密套筒(8)為中空結構,內孔(10)上有滑槽(9),所述滑槽(9)與所述精密支架(4)上的銷軸(6)配合。
9.【權利要求9】如權利要求1所述的精密測量三維坐標的裝置,其特征在于:所述半球型水準尺墊(3)采用磁性材料制成。
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