[實用新型]一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200820235937.7
• 申請日: 2008-12-30
• 公開（公告）號: CN201326012Y
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發明（設計）人: 丘仁政;陳漢文;羅賓
• 申請（專利權）人: 丘仁政;陳漢文;羅賓
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，包括放卷室、收卷室、張力控制室、預處理室、工藝室組成，其特征在于：放卷室和收卷室分別位于設備的首末兩端，放卷室和收卷室分別與一個張力控制室連接，放卷室一端的張力控制室連接有預處理室，預處理室和收卷室一端的張力控制室之間設置有至少一個工藝室，上述的放卷室、收卷室的一端及張力控制室、預處理室、工藝室的兩端均設置有相同規格的法蘭盤，并通過法蘭盤依次連接上述放卷室、收卷室、張力控制室、預處理室、工藝室為一體，所述的放卷室、張力控制室、預處理室、工藝室、收卷室均為真空室，所述的放卷室、張力控制室、預處理室、工藝室、收卷室中均設有傳輸使用的輥。

2、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的放卷室中設置有低溫吸附阱，其中部設置有放置被鍍膜帶材的輥、放卷室內腔與真空系統即真空泵連接。

3、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的收卷室同樣設有放置帶材的收卷輥，收卷室內腔與真空系統即真空泵連接。

4、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的兩個張力控制室中內腔連接真空系統即真空泵連接。且其內腔中水平設置有由三個輥構成的三角形張力控制裝置。

5、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的預處理室中設置有離子源，其空腔中連接真空系統即真空泵連接。

6、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的工藝室中設置有一組中頻靶，其中設置有三個輥，中頻靶位于位于中部的主輥的上方，其空腔中連接真空系統即真空泵連接，且設置在其中的輥為水冷輥。

7、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的工藝室中部設有工藝室隔離板將工藝室分隔成上下兩個室，該隔離板為平板形狀，且為兩個相對設置將工藝室分隔成兩個獨立腔體，該隔離板全部或者至少接觸部分使用柔軟的彈性的材料制成，一對隔離板對置的縫隙由柔軟的彈性材料封閉，該縫隙與帶材通過位置相應且帶材由縫隙中通過，上述的鍍制帶材的入口在工藝室的下方，帶材接觸隔板處有柔性材料，防止膜層劃傷。

8、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的工藝室為一個以上，可以根據所鍍膜層的不同，任意調整工藝室的個數，滿足鍍制不同膜層的工藝需求，最佳的鍍的鍍膜工藝采用四個工藝室，其中第一個室中的中頻靶分別為不銹鋼靶或鉬靶；第二個室中的中頻靶均設置為鋁靶；第三個室中同樣設置鋁靶；第四個室中同樣為鋁靶。

9、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的末端張力控制室和工藝室之間設置有檢測糾偏室，其中設置有太陽吸收率和發射率多點連續檢測設備和校正帶材走偏的裝置以及輸送帶材的輥。

10、根據權利要求1所述的一種連續卷繞式磁控濺射真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的放卷室、收卷室、張力控制室、預處理室、多個工藝室兩端至少有一端設置有隔離板，該隔離板全部或者至少接觸部分使用柔性的彈性的材料制成，一對隔離板對置的縫隙由彈性材料密閉，該縫隙與帶材通過位置相應且帶材由縫隙中通過。