[實用新型]帶氣圈可調(diào)式淬火裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820224132.2
• 申請日: 2008-11-20
• 公開（公告）號: CN201292394Y
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙芳;高佃生;張志福
• 申請（專利權(quán)）人: 淄博弘揚石油設(shè)備有限公司
• 主分類號: C21D9/28
• 分類號: C21D9/28;C21D1/667
• 代理公司: 淄博科信專利商標代理有限公司
• 代理人: 耿 霞

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型是用于連續(xù)加熱電爐處理長軸類零件噴淋淬火的一種裝置。

背景技術(shù)

經(jīng)過電爐連續(xù)加熱處理的長軸類零件需要進行淬火，淬火的均勻程度直接影響到產(chǎn)品的質(zhì)量。原使用的淬火器主要是有：支架7、錐筒8、進水管9、圓筒10和噴水圈11組成，如圖3所示，噴水圈在壁厚上開有2排與X軸成30度角的水孔，其存在的不足是加工難度大，噴淋工件面積小，噴水量不足，淬火不均勻使產(chǎn)品產(chǎn)生彎曲，而且水柱易反沖濺入爐口而消耗熱能。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，能夠提高細長軸類零件淬火均勻性減少其彎曲。

本實用新型帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，包括支架，其特征在于在長條支架上沿工件進入方向依次安裝一個環(huán)形噴氣圈和多個環(huán)形噴水圈，噴氣圈內(nèi)壁上開有噴氣孔，噴水圈的內(nèi)壁上開有噴水孔。

本實用新型是在長條支架的一端安裝環(huán)形噴氣圈，其它位置間隔安裝環(huán)形噴水圈。優(yōu)選噴氣圈內(nèi)壁上開有單排環(huán)形噴氣孔且與Y軸成30度角，噴水圈的內(nèi)壁上開有兩排環(huán)形噴水孔。

工件從電爐輸出進入該淬火裝置，依次經(jīng)過噴氣圈、噴水圈，在噴淋淬火時，氣體從噴氣圈上的噴氣孔噴出，阻止了水柱反沖濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈內(nèi)壁上的噴水孔將水流噴射到環(huán)形中心，使工件在旋轉(zhuǎn)前行時噴淋淬火均勻，由于噴氣圈和噴水圈單獨固定，可在支架上按一定的間距調(diào)節(jié)，多個噴水圈水量充足，增大了工件的噴水量，，實現(xiàn)了工件淬火均勻減少彎曲的目的。

本實用新型的優(yōu)點：

結(jié)構(gòu)簡單，技術(shù)性能可靠，實用性強，是提高細長軸類零件淬火均勻性減少其彎曲的有效裝置。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為噴氣圈或噴水圈的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3原淬火器結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1支架??2噴氣圈??3噴水圈??4噴氣孔??5噴水孔??6進氣管或進水管??7支架??8錐筒??9進水管??10圓筒??11噴水圈

具體實施方式

如圖所示，本實用新型帶氣圈可調(diào)式淬火裝置，包括長條支架1，在支架1上沿工件進入方向依次安裝一個環(huán)形噴氣圈2和多個環(huán)形噴水圈3。噴氣圈2內(nèi)壁均布了單排環(huán)形小噴氣孔4，噴氣孔4與Y軸成30度角。氣體從兩進氣管6進入，沿噴氣孔4噴出。噴水圈3的內(nèi)壁(內(nèi)圈)均布排列了兩排環(huán)形小噴水孔5，充足的水流從兩進水管6進入，沿兩排環(huán)形的小孔噴射到環(huán)形噴水圈中心。

工件從電爐輸出進入該淬火裝置，依次經(jīng)過噴氣圈2、噴水圈3，在噴淋淬火時，氣體從噴氣圈2上的噴氣孔4噴出，阻止了水柱反沖濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈3內(nèi)壁上的噴水孔5將水流噴射到環(huán)形噴水圈中心，使工件在旋轉(zhuǎn)前行時噴淋淬火均勻，由于噴氣圈2和噴水圈3單獨固定，可在支架上按一定的間距調(diào)節(jié)(公知技術(shù)結(jié)構(gòu))，多個噴水圈水量充足，增大了工件的噴水量，實現(xiàn)了工件淬火均勻減少彎曲的目的。