[實用新型]一種激光聚焦泵浦裝置

有效

• 申請號: 200820222760.7
• 申請日: 2008-12-04
• 公開（公告）號: CN201298657Y
• 公開（公告）日: 2009-08-26
• 發明（設計）人: 孫建華;李國華
• 申請（專利權）人: 西安華科光電有限公司
• 主分類號: H01S3/0941
• 分類號: H01S3/0941
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司
• 代理人: 商宇科

1、一種激光聚焦泵浦裝置，包括LD泵浦激光光源和設置在LD泵浦激光光源的輸出光軸上的諧振腔，其特征在于：該裝置還包括設置在LD泵浦激光光源的輸出光軸上的自聚焦透鏡；所述自聚焦透鏡設置在LD泵浦激光光源和諧振腔之間。

2、根據權利要求1所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述自聚焦透鏡是直徑為φ0.2mm～φ5mm、長度為0.1P～4P的圓柱體自聚焦透鏡。

3、根據權利要求2所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述圓柱體自聚焦透鏡是適用波長為400nm～1342nm的激光的圓柱體自聚焦透鏡。

4、根據權利要求1或2或3所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述諧振腔是平面諧振腔或平凹諧振腔。

5、根據權利要求4所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述平面諧振腔由用于變頻的第一晶體和用于倍頻的第二晶體膠合而成；所述用于變頻的第一晶體和用于倍頻的第二晶體依次設置在LD泵浦激光光源的輸出光軸上；所述平面諧振腔的兩端面上鍍有反射膜。

6、根據權利要求5所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述LD泵浦激光光源是808nm的半導體激光二極管。

7、根據權利要求4所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述平凹諧振腔由用于變頻的第三晶體、用于倍頻的第四晶體和平凹反射鏡組成，所述用于變頻的第三晶體、用于倍頻的第四晶體和平凹反射鏡依次設置在LD泵浦激光光源的輸出光軸上；所述第一晶體的入射端面上鍍有反射膜。

8、根據權利要求6所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述平凹透鏡是光學玻璃透鏡。

9、根據權利要求7所述的激光聚焦泵浦裝置，其特征在于：所述LD泵浦激光光源是808nm的半導體激光二極管。