[實用新型]一種噴淋頭無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820220261.4 | 申請日: | 2008-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN201292404Y | 公開(公告)日: | 2009-08-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孟凡榮;趙科新;郭東民;趙崇凌;王海濤;李重茂 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器研制中心有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 周秀梅;許宗富 |
| 地址: | 110168遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 噴淋 | ||
1、一種噴淋頭,該噴淋頭包括外屏蔽罩(1)、進(jìn)氣管(3)和法蘭(7),外屏蔽罩(1)安裝在法蘭(7)外部,進(jìn)氣管(3)與混氣板組件(5)連接,混氣板組件(5)與法蘭(7)連接,混氣板組件(5)與法蘭(7)之間安裝絕緣物質(zhì),其特征在于:進(jìn)氣管(3)的上端安裝真空角閥(2),進(jìn)氣管(3)與混氣板組件(5)通過陶瓷管(4)連接,法蘭(7)的下部安裝勻氣盒組件(10),勻氣盒組件(10)的兩端與混氣板組件(5)連接。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴淋頭,其特征在于:絕緣物質(zhì)為絕緣陶瓷(6)和石英玻璃板(8),絕緣陶瓷(6)位于混氣板組件(5)的側(cè)面,石英玻璃板(8)位于法蘭(7)的底部。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴淋頭,其特征在于:勻氣盒組件(10)下方平行設(shè)置進(jìn)氣板(11),進(jìn)氣板(11)的兩端與混氣板組件(5)連接。
4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴淋頭,其特征在于:勻氣盒組件(10)由兩塊平行放置的均氣板組成。
5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴淋頭,其特征在于:在均氣板上有孔,兩塊均氣板上的孔均勻布置且孔位交錯。
6、根據(jù)權(quán)利要求3所述的噴淋頭,其特征在于:進(jìn)氣板(11)的上面具有孔。
7、根據(jù)權(quán)利要求6所述的噴淋頭,其特征在于:進(jìn)氣板(11)的上面的孔成蜂窩狀排列。
8、根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的噴淋頭,其特征在于:進(jìn)氣板(11)上的孔在面向工件的一側(cè)上窄下寬。
9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的噴淋頭,其特征在于:進(jìn)氣板(11)上的孔為喇叭口形狀或圓臺狀。
10、根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴淋頭,其特征在于:勻氣盒組件(10)的外側(cè)安裝內(nèi)屏蔽罩(9)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





