[實(shí)用新型]鍍膜玻璃用磁控鍍膜真空腔室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200820215302.0 | 申請(qǐng)日： | 2008-11-19 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN201326009Y | 公開（公告）日： | 2009-10-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 趙子?xùn)| | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蘇州新愛可鍍膜設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/35 | 分類號(hào)： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 張家港市高松專利事務(wù)所 | 代理人： | 黃春松 |
| 地址： | 215625江蘇省張家港*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鍍膜 玻璃 用磁控 空腔 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、鍍膜玻璃用磁控鍍膜真空腔室，包括：腔室，設(shè)置在腔室內(nèi)的三個(gè)隔離通道，在每個(gè)隔離通道上分別開設(shè)有玻璃輸送通道，其特征在于：在玻璃輸送通道的上、下兩側(cè)分別設(shè)置有氣氛隔離擋板。
2、按照權(quán)利要求1所述的鍍膜玻璃用磁控鍍膜真空腔室，其特征在于：所述的氣氛隔離擋板設(shè)置在構(gòu)成隔離通道的墻板上。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
