[實用新型]制備非晶硅薄膜的連續式等離子體增強化學氣相淀積反應室

有效

• 申請號: 200820210906.6
• 申請日: 2008-12-12
• 公開（公告）號: CN201334518Y
• 公開（公告）日: 2009-10-28
• 發明（設計）人: 周大良;劉良玉
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第四十八研究所
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/24
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司
• 代理人: 馬 強

1、一種制備非晶硅薄膜的連續式等離子體增強化學氣相淀積反應室，包括一個由底板(7)和裝在該底板(7)上的反應罩(26)組成的圓筒形大反應室(1)，其特征是，所述大反應室(1)中設有一個入片室(2)和三個結構相同的圓形小反應室，該三個圓形小反應室的軸心線均與大反應室(1)的軸心線平行，且同一水平截面上所述三個圓形小反應室和入片室(2)的圓心到大反應室(1)圓心的距離均相等，該三個圓形小反應室和入片室(2)的圓心分布在所述截面的同一圓周上；并且：

所述圓形小反應室由位于大反應室(1)下部的下反應室和位于大反應室上部并與所述下反應室相對的可升降上反應室組成；

機械傳送臂由位于所述大反應室(1)中心且相對于所述底板(7)為密封連接的轉軸(6)和一端裝在該轉軸上的可升降橫臂(17)組成，載有基片(16)的所述橫臂(17)在轉軸(6)驅動下可運行至所述下反應室和上反應室之間；

載有基片(16)的所述橫臂(17)運行至一個下反應室上方后，下降至該下反應室的上端口，相應的上反應室下降至該載有基片(16)的橫臂(17)上而與該橫臂(17)及所述下反應室組成密封的所述圓形小反應；

入片室(2)由位于大反應室(1)底板(7)上并設有屏蔽層的電加熱器(8)和位于該電加熱器(8)上方并安裝在大反應室(1)的所述反應罩(26)上的可開啟密封門(25)組成。

2、根據權利要求1所述制備非晶硅薄膜的連續式等離子體增強化學氣相淀積反應室，其特征是，下反應室的底座(27)焊接在底板(7)上，為水冷夾層結構；該下反應室的底部設有工藝氣體進氣口(13)、抽氣口(14)及高頻電源(RF)引入；下反應室中還設有進氣勻流板(15)；上反應室的下端為敞口的罩形基座(28)中裝有加熱器(19)和內屏蔽罩(20)，罩形基座(28)頂部通過置于焊接金屬波紋管(23)中的連接桿(29)與該焊接金屬波紋管(23)的頂端連接并與大反應室(1)外部的上反應室升降氣缸(21)的活塞相連，可伸縮的焊接金屬波紋管(23)的下端與反應罩(26)上的支架固定連接。

3、根據權利要求1所述制備非晶硅薄膜的連續式等離子體增強化學氣相淀積反應室，其特征是，所述可升降的橫臂(17)的組成為，連接在底板(7)底面上的電動機(10)、同步帶(9)通過磁流體密封件(11)與機械傳送臂的轉軸(6)下端相連，一側同所述橫臂(17)一端固定連接的軸帽(30)套裝在轉軸(6)上端且該軸帽(30)與轉軸(6)之間裝有張力彈簧(22)；一根升降桿(31)的下端位于軸帽(30)上方而該升降桿(31)的上端同可伸縮的焊接金屬波紋管(23)上端及氣缸(24)的活塞連接；該焊接金屬波紋管(23)下端及氣缸(24)分別同反應罩(26)上的支架固定連接。

4、根據權利要求1所述制備非晶硅薄膜的連續式等離子體增強化學氣相淀積反應室，其特征是，所述入片室(2)由位于大反應室(1)底板(7)上并設有屏蔽層的電加熱器(8)和位于該電加熱器(8)上方并安裝在所述反應罩(26)上的可開啟密封門(25)組成。