[實用新型]真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820200630.3 | 申請日: | 2008-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN201265038Y | 公開(公告)日: | 2009-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蘇東藝 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇東藝 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22;C23C14/48 |
| 代理公司: | 江門嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 譚志強 |
| 地址: | 510520廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 離子 鍍膜 自轉(zhuǎn) 機構(gòu) | ||
1、一種真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu),包括連接在真空鍍膜室內(nèi)的自轉(zhuǎn)軸座(1)和自轉(zhuǎn)軸(2),其中,自轉(zhuǎn)軸座(1)由上、下軸座(11、12)通過螺栓連接組合而成并將自轉(zhuǎn)軸(2)的中段套裝于其內(nèi),所述自轉(zhuǎn)軸(2)伸出自轉(zhuǎn)軸座(1)的上端作為齒輪(3)的中轉(zhuǎn)軸連接于齒輪(3)中間,下端通過連接掛鉤(4),其特征在于:所述自轉(zhuǎn)軸座(1)內(nèi)圍繞自轉(zhuǎn)軸(2)設(shè)有承接自轉(zhuǎn)軸(2)的滾珠組(5)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu),其特征在于:所述滾珠組(5)分別設(shè)置于自轉(zhuǎn)軸座(1)內(nèi)與自轉(zhuǎn)軸(2)連接的上、下兩端。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu),其特征在于:所述滾珠組(5)包括滾珠(51)和外、內(nèi)導(dǎo)套(61、62),其中,外導(dǎo)套(61)設(shè)于滾珠(51)與自轉(zhuǎn)軸座(1)的連接側(cè),內(nèi)導(dǎo)套(62)設(shè)于滾珠(51)與自轉(zhuǎn)軸(2)的連接側(cè)。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu),其特征在于:所述外導(dǎo)套(61)內(nèi)側(cè)與滾珠(51)接觸端設(shè)有安置滾珠(51)的缺口;所述內(nèi)導(dǎo)套(62)外側(cè)與滾珠(51)接觸端設(shè)有安置滾珠(51)的缺口。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu),其特征在于:所述自轉(zhuǎn)軸(2)中段突起形成上、下臺階面。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空離子鍍膜機的自轉(zhuǎn)機構(gòu),其特征在于:所述滾珠組(5)分別位于自轉(zhuǎn)軸(2)上臺階面的上方和下臺階面的下方。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





