[實用新型]真空離子鍍膜機

有效

• 申請號: 200820200629.0
• 申請日: 2008-09-13
• 公開（公告）號: CN201265040Y
• 公開（公告）日: 2009-07-01
• 發明（設計）人: 蘇東藝
• 申請（專利權）人: 蘇東藝
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 江門嘉權專利商標事務所有限公司
• 代理人: 譚志強

1、真空離子鍍膜機，包括真空鍍膜室(1)、安裝在真空鍍膜室(1)內的上轉架(2)和連接在上轉架(2)上的自轉軸(3)，其特征在于：所述真空鍍膜室(1)內設有支撐上轉架(2)的滾珠機構(4)。

2、根據權利要求1所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述滾珠機構(4)包括固定在上轉架(2)下方的承接架(41)，所述承接架(41)上面分布有滾珠(5)支撐上轉架(2)。

3、根據權利要求2所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述承接架(41)上開設有若干圓槽，滾珠(5)放置于圓槽內支撐上轉架(2)。

4、根據權利要求3所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述滾珠(5)分布于承接架(41)上端一定距離的圓周上。

5、根據權利要求1所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述滾珠機構(4)包括通過螺栓固定在真空鍍膜室(1)內限制上轉架(2)周向位置的固定軸組(42)，所述固定軸組(42)的外側面與上轉架(2)內側面相抵。

6、根據權利要求5所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述固定軸組(42)包括用螺栓固定在真空鍍膜室(1)內的固定軸(421)，固定軸(421)下端設有凸起臺階，臺階上套置有軸套(422)，所述軸套(422)外側面與上轉架(2)內側面相抵。

7、根據權利要求6所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述軸套(422)內設有滾珠(6)圍繞固定軸(421)。

8、根據權利要求7所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述軸套(422)內滾珠(6)的上、下端設有承接滾珠(6)的上、下導套(61、62)。

9、根據權利要求8所述的真空離子鍍膜機，其特征在于：所述上、下導套(61、62)與滾珠(6)相接觸面設有凹槽。