[實用新型]光罩盒有效
| 申請號： | 200820189661.3 | 申請日： | 2008-03-24 |
| 公開（公告）號： | CN201352302Y | 公開（公告）日： | 2009-11-25 |
| 發明（設計）人： | 林志銘 | 申請（專利權）人： | 家登精密工業股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/00 | 分類號： | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/673 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 梁愛榮 |
| 地址： | 臺灣省*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光罩盒 | ||
1、一種光罩盒，其包含：
一上蓋體；
一下蓋體，用以與該上蓋體組合，形成一內部空間可容納一光罩；
至少一鎖扣件；以及
至少一鎖扣座；
其特征在于，該上蓋體以及該下蓋體具有至少一對應的側邊，且該鎖扣件設于該上蓋體的側邊，而另一蓋體的側邊具有至少一鎖扣槽設于對應該鎖扣件的位置，該鎖扣座固設于該鎖扣槽中。
2、如權利要求1所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座是以包入射出成型的方式固設于該下蓋體中。
3、如權利要求1所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座是以卡設的方式固設于該下蓋體中。
4、如權利要求1所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座材質的耐磨度高于該下蓋體材質的耐磨度。
5、如權利要求1所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座為高分子材料，且該高分子材料為聚醚醚酮類化合物或聚酰亞胺類化合物。
6、如權利要求1所述的光罩盒，其特征在于，該光罩盒為光罩傳送盒或光罩保存盒。
7、一種光罩盒，其特征在于，包含：
一上蓋體；
一下蓋體，用以與該上蓋體組合，形成一內部空間可容納一光罩；
至少一鎖扣件；以及
至少一鎖扣座；
其特征在于，該上蓋體以及該下蓋體具有至少一對應的側邊，且該鎖扣件設于該下蓋體的側邊，而另一蓋體的側邊具有至少一鎖扣槽設于對應該鎖扣件的位置，該鎖扣座固設于該鎖扣槽中。
8、如權利要求7所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座是以包入射出成型的方式固設于該上蓋體中。
9、如權利要求7所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座是以卡設的方式固設于該上蓋體中。
10、如權利要求7所述的光罩盒，其特征在于，該鎖扣座為高分子材料，且該高分子材料為聚醚醚酮類化合物或聚酰亞胺類化合物。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
