[實用新型]太陽電池等離子刻蝕模具無效
| 申請號: | 200820168517.1 | 申請日: | 2008-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN201289862Y | 公開(公告)日: | 2009-08-12 |
| 發明(設計)人: | 俞相明;周曉兵 | 申請(專利權)人: | 浙江向日葵光能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/3065 |
| 代理公司: | 紹興市越興專利事務所 | 代理人: | 蔣衛東 |
| 地址: | 312071浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽電池 等離子 刻蝕 模具 | ||
技術領域
本實用新型公開了一種太陽電池等離子刻蝕模具,屬于太陽電池刻蝕設備技術領域。
背景技術
太陽電池實際上是一個面積比較大的非線性PN結,在制作過程中,需要將擴散工序中形成的硅邊緣P-N結去除,否則,將導致電極正負極之間并聯電阻過小,影響電池的輸出特性。大規模生產中,一般用四氟化碳在高頻電場中電離出氟離子與Si反應生成SiF4的方式來去除邊緣PN結。
現有的太陽電池等離子刻蝕模具,主要由底盤、底板、蓋板、加壓裝置組成。刻蝕時,先將底板置于底盤上,再將數片硅片疊層置于底板上,接著于最頂端的硅片上放置蓋板,再用加壓裝置通過蓋板對整疊硅片進行壓緊,最后充入四氟化碳氣體進行刻蝕,以去除邊緣PN結。實踐證明,位于下端部分的硅片,尤其是底端部分的硅片,存在刻蝕不全、不均勻的問題。
實用新型內容
為了解決上述問題,本實用新型提供了一種可將整疊硅片的邊緣PN結,全面、均勻刻蝕完全的太陽電池等離子刻蝕模具。
為了實現上述目的,本實用新型所采用的技術方案為:
一種太陽電池等離子刻蝕模具,包括底盤、底板、蓋板、加壓裝置,所述底盤與底板之間設置有不少于三個的支撐柱,且所有支撐柱等高。
作為上述方案的進一步設置,所述支撐柱固定安裝于底盤上。
所述支撐柱為三個,且均勻分布于底盤上。
所述支撐柱為圓柱體。
所述支撐柱選用不銹鋼制成。
所述底盤呈圓形。
采用上述方案后,本實用新型在底盤與底板之間設置有不少于三個的支撐柱,且所有支撐柱等高,如此設計以后,支撐柱將底盤與底板之間隔離開一定的距離,有利于刻蝕氣體(如四氟化碳氣體)環流通過整疊硅片,使整疊硅片的邊緣PN結,全面、均勻的被刻蝕完全,尤其解決了位于底端部分的硅片,刻蝕不全、不均勻的問題。
以下結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步說明。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖;
圖2為圖1撤掉底板、蓋板后的結構示意圖;
圖3為本實用新型工作狀態的結構示意圖。
具體實施方式
如圖1、圖2、圖3所示,本實用新型太陽電池等離子刻蝕模具,包括底盤1、底板3、蓋板4、加壓裝置5,此為現有太陽電池等離子刻蝕模具的結構。
本案的改進點是:底盤1與底板3之間設置有不少于三個的支撐柱2,且所有支撐柱2等高。如此設計以后,支撐柱2將底盤1與底板3之間隔離開一定的距離,有利于刻蝕氣體(如四氟化碳氣體)環流通過整疊硅片6,使整疊硅片6的邊緣PN結,全面、均勻的被刻蝕完全,尤其解決了位于底端部分的硅片6,刻蝕不全、不均勻的問題。
作為本案的進一步優選,支撐柱2固定安裝于底盤1上。當然也可將支撐柱2固定安裝于底板3的底端,或者是直接放置于底盤1與底板3之間。
為了簡化結構,同時又能達到良好的效果,本實施例優選了三個支撐柱2的結構設計,且該三個支撐柱2均勻分布于底盤1上,其中底盤1為圓形。
為了進一步提高整體性能,支撐柱2為選用不銹鋼制成的圓柱體。不銹鋼材料,結構牢固,熱膨脹系數低。
刻蝕時,先將底板3置于底盤1的三個支撐柱2上,再將數片硅片6疊層置于底板3上,接著于最頂端的硅片6上放置蓋板4,再用加壓裝置5通過蓋板4對整疊硅片6進行壓緊,最后充入四氟化碳氣體進行刻蝕,以去除邊緣PN結。
上述實施例僅用于解釋說明本實用新型的發明構思,而非對本實用新型權利保護的限定,凡利用此構思對本實用新型進行非實質性的改動,均應落入本實用新型的保護范圍。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





