[實(shí)用新型]在位式氣體測量裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820165808.5
• 申請日: 2008-10-09
• 公開（公告）號: CN201266168Y
• 公開（公告）日: 2009-07-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃偉;顧海濤;王健
• 申請（專利權(quán)）人: 聚光科技(杭州)有限公司
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01N21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種在位式氣體測量裝置，包括光源、分束器件、第一和第二探測器、分析單元、向光源和/或第一探測器所處區(qū)域供應(yīng)吹掃氣體的吹掃單元；其特征在于：所述分束器件設(shè)置在所述光源或第一探測器所處區(qū)域內(nèi)，測量光在所述分束器件上被分為第一光束和第二光束，所述第二探測器設(shè)置在所述第二光束的行進(jìn)路線上。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體測量裝置，其特征在于：所述分束器件和第二探測器設(shè)置在光源或第一探測器所處區(qū)域內(nèi)。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體測量裝置，其特征在于：所述分束器件和第二探測器分別設(shè)置在光源和第一探測器所處區(qū)域內(nèi)。

4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體測量裝置，其特征在于：所述分束器件和第二探測器分別設(shè)置在第一探測器和光源所處區(qū)域內(nèi)。

5、根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的氣體測量裝置，其特征在于：所述分束器件是會(huì)聚透鏡或玻片。