[實用新型]PECVD設備上料及下料端的輸送臺有效
| 申請號： | 200820160201.8 | 申請日： | 2008-09-12 |
| 公開（公告）號： | CN201258359Y | 公開（公告）日： | 2009-06-17 |
| 發明（設計）人： | 沈寅;王仁杰 | 申請（專利權）人： | 常州天合光能有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44;C23C16/54 |
| 代理公司： | 常州市維益專利事務所 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 213031江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | pecvd 設備 料及 下料端 輸送 | ||
【權利要求書】：
1、一種PECVD設備上料及下料端的輸送臺，具有石墨框輸送主動輪(1)，其特征是：所述的輸送主動輪(1)之間設置至少一個惰輪(2)，組成惰輪單元。
2、根據權利要求1所述的PECVD設備上料及下料端的輸送臺，其特征是：所述的惰輪單元中的每個惰輪(2)通過獨立的支架(3)安裝在輸送臺上。
3、根據權利要求2所述的PECVD設備上料及下料端的輸送臺，其特征是：所述的惰輪(2)通過彈簧調節器(4)安裝支架(3)上。
4、根據權利要求2所述的PECVD設備上料及下料端的輸送臺，其特征是：所述的惰輪單元中的相鄰的惰輪(2)的支架(3)彼此固定，成為一個整體。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
