[實用新型]多模式共聚焦成像裝置有效
| 申請號: | 200820155014.0 | 申請日: | 2008-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN201295224Y | 公開(公告)日: | 2009-08-26 |
| 發明(設計)人: | 席鵬;任秋實;黃欣明;萬俊超 | 申請(專利權)人: | 上海奧通激光技術有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00;G02B27/00 |
| 代理公司: | 北京中北知識產權代理有限公司 | 代理人: | 段秋玲 |
| 地址: | 200240上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模式 聚焦 成像 裝置 | ||
1.一種多模式共聚焦成像裝置,其特征在于:該裝置包括反射信號采集裝置和熒光信號采集裝置,
其中反射信號采集裝置包括沿光路順序設置的第一激光光源、棱鏡起偏器、四分之一波片、第一二向色分光鏡、掃描鏡和物鏡,在棱鏡起偏器的由物鏡返回的光路的反射光路上順序設置有第一濾波片、第一透鏡、第一共聚焦針孔和第一光電探測器,該第一光電探測器與成像電腦系統連接;
同時該裝置還設置有熒光信號采集裝置,并且熒光信號采集裝置與反射信號采集裝置公用上述的從第一二向色分光鏡到物鏡的光路,其包括:沿光路順序設置的第二激光光源、第二二向色分光鏡、第一二向色分光鏡、掃描鏡和物鏡,第二二向色分光鏡設置于光路由物鏡返回第一二向色分光鏡的反射光路上,在第二二向色分光鏡的由物鏡返回的光路的反射光路上順序設置有第二濾波片、第二透鏡、第二共聚焦針孔和第二光電探測器,該第二光電探測器與成像電腦系統連接。
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