[實用新型]雙腔交替式非晶硅光伏薄膜化學氣相沉積設備有效
| 申請號: | 200820152147.2 | 申請日: | 2008-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN201274295Y | 公開(公告)日: | 2009-07-15 |
| 發明(設計)人: | 奚建平;金小亮 | 申請(專利權)人: | 上海曙海太陽能有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/20 | 分類號: | H01L31/20;C23C16/44 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 201300上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 交替 式非晶硅光伏 薄膜 化學 沉積 設備 | ||
1.一種雙腔交替式非晶硅光伏薄膜化學氣相沉積設備,包括真空鍍膜機,所述真空鍍膜機包括真空腔體及與其連接的加熱/冷卻系統、真空獲得/壓力測量系統、工藝氣體/流量控制系統、射頻電源/匹配器系統和中心控制系統,其特征在于:該真空鍍膜機設有兩個真空腔體,每個真空腔體設有一至多個電極盒。
2.如權利要求1所述的雙腔交替式非晶硅光伏薄膜化學氣相沉積設備,其特征在于:所述兩個真空腔體共用真空獲得/壓力測量系統,工藝氣體/流量控制系統,射頻電源/匹配器系統,通過中心控制系統在時間上控制真空腔體的交替鍍膜過程。
3.如權利要求1所述的雙腔交替式非晶硅光伏薄膜化學氣相沉積設備,其特征在于:所述真空腔體內設置軌道,電極盒安裝在軌道上,便于安裝和維護時拉出和推入。
4.如權利要求1所述的雙腔交替式非晶硅光伏薄膜化學氣相沉積設備,其特征在于:各個系統與電極盒的連接均為固定式,在生產的全部過程中無須移動、拆卸或裝接。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





