[實(shí)用新型]相變薄膜微區(qū)光譜測量裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200820151235.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-07-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201251545Y | 公開(公告)日: | 2009-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 翟鳳瀟;魏勁松;王陽;吳誼群 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/39 | 分類號(hào): | G01N21/39 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 相變 薄膜 光譜 測量 裝置 | ||
1、一種相變薄膜微區(qū)光譜測量裝置,其特征在于:該裝置由光源(1)、光闌(2)、斬光器(3)、第二半反半透鏡(5)、第三半反半透鏡(6)、物鏡(7)、成像透鏡(9)、第一透鏡(10)、第一光譜儀(11)、第一光電探測器(12)、鎖相放大器(13)、第二光電探測器(14)、第二光譜儀(15)、第二透鏡(16)、第三透鏡(17)、聲光器件(18)、第四透鏡(19)、擴(kuò)束鏡(20)、激光器(21)和計(jì)算機(jī)(24)構(gòu)成,其位置關(guān)系如下:由所述的光源(1)出射的光經(jīng)光闌(2),通過斬光器(3)的調(diào)制,再依次經(jīng)過第二半反半透鏡(5)、第三半反半透鏡(6)透過的光經(jīng)過物鏡(7)聚焦照射到樣品臺(tái)上的樣品(8)的表面上,透過所述的樣品(8)的光經(jīng)過成像透鏡(9)和第一透鏡(10)進(jìn)入第一光譜儀(11),光譜信號(hào)由第一光電探測器(12)探測;被所述的樣品(8)反射的光經(jīng)過所述的物鏡(7)返回成像,然后經(jīng)所述的第三半反半透鏡(6)的反射后,經(jīng)第二透鏡(16)的聚焦進(jìn)入所述的第二光譜儀(15),光譜的信號(hào)由第二光電探測器(14)探測,所述的第一光電探測器(12)和第二光電探測器(14)的輸出端與鎖相放大器(13)的輸入端相連,所述的第一光電探測器(12)和第二光電探測器(14)的第二輸出端與計(jì)算機(jī)(24)相連,該計(jì)算機(jī)(24)的輸出端接所述的鎖相放大器(13)的第三輸入端,該鎖相放大器(13)參考輸入端接所述的斬光器(3),在所述的第二半反半透鏡(5)的反射光方向依次是第三透鏡(17)、聲光器件(18)、第四透鏡(19)、擴(kuò)束鏡(20)和激光器(21)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的相變薄膜微區(qū)光譜測量裝置,其特征在于所述的待測樣品(8)置于三維平移臺(tái)上。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的相變薄膜微區(qū)光譜測量裝置,其特征是在所述的斬光器(3)和第二半反半透鏡(5)之間設(shè)有第一半反半透鏡(4),在該第一半反半透鏡(4)的反射光方向依次有衰減片(22)和CCD探測器(23)。
4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的相變薄膜微區(qū)光譜測量裝置,其特征在于在所述的激光器(21)是He—Ne激光器。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





