[實用新型]全自動太陽能硅片制絨清洗設備無效
| 申請號: | 200820151098.0 | 申請日: | 2008-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN201233901Y | 公開(公告)日: | 2009-05-06 |
| 發明(設計)人: | 周柏林;李貴海 | 申請(專利權)人: | 上海科偉達超聲波科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201109上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 全自動 太陽能 硅片 清洗 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種太陽能光伏產業技術領域的設備,具體是一種全自動太陽能硅片制絨清洗設備。
背景技術
太陽能光伏產業中單晶硅電池片制絨工藝通過采用手動制絨及清洗設備來實現,基本能夠滿足單晶硅電池片的生產要求。但是隨著光伏產業的飛速發展,產能的不斷擴大,手動制絨及清洗設備越來越不能滿足需求,其產能及效率低、工作環境惡劣、由于人工操作不可避免的缺陷而造成的產品質量參差不齊等缺點逐漸暴露出來。
專利申請號“200710025572.5”涉及的“太陽能硅片的切割制絨一體化加工方法及裝置”中所提到的制絨方法從某種意義上說已經擺脫手動制絨的束縛,使得單晶硅片生產和制絨能夠在同一個裝置上實現,一定程度上提高生產效率。但是切片制絨以后,必須再進行清洗以后才能進入下一到工序。眾所周知,在太陽能光伏產業高速發展的今天,多線切割設備仍然是單晶硅片生產的主力軍,而國內多線切割設備技術尚不成熟,所以業界基本上全部選用進口設備。
發明內容
本實用新型的目的在于克服現有技術的不足,提供一種全自動太陽能硅片制絨清洗設備,以提高生產效率和產能,改善工作環境,提高單晶硅片的制絨質量并保證其均勻性,獲得更高太陽能光電轉換效率。
為了實現上述目的,本實用新型的技術方案為:
一種全自動太陽能硅片制絨清洗設備,包括機架、制絨清洗槽、干燥系統、單臂移載式機械手、自動進料臺、自動出料臺、微機控制系統、觸摸屏。制絨清洗槽、干燥系統分別固定于機架上;單臂移載式機械手與機架連接,位于制絨清洗槽前方;干燥系統一端與制絨清洗槽連接,另外一端與自動進出料臺連接,其底部固定在機架上,單臂移載式機械手固定在滑軌上并可以在滑軌上按照既定的程序移動,滑軌固定于機架上;微機控制系統、觸摸屏安裝于機架之上。
本實用新型的主要技術措施還有:這是一個全自動清洗設備,清洗過程完全由微機控制,無需人工干預。操作者將裝有工件的清洗籃放置在自動進料臺上,由單臂移載式機械手將清洗籃依次送往制絨清洗槽和干燥系統進行制絨清洗及干燥作業,然后送往自動出料臺上,操作者在出料端將清洗籃取下轉入另一道工序。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果:太陽能單晶硅片腐蝕制絨、清洗以及干燥過程為全自動作業,無需人工干預,設備產能、生產效率高。清洗過程中硅片碎片率低,制備的太陽能單晶電池片絨面均勻,轉換效率高,生產的同一批和不同批次的太陽能單晶電池片質量一致性好。
附圖說明
圖1是本實用新型設備的前視圖。
圖2是本實用新型設備的微機控制流程圖。
標記說明:
1-自動進料臺,2-微機控制系統,3-觸摸屏,4-抽排風系統,5-機械手,6-透明觀察窗,7-氣缸蓋,8-清洗籃,9-制絨清洗槽,10-機架,11-一百級過濾器,12-排風接口,13-烘干槽,14-烘干槽,15-自動出料臺。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型的實施例作詳細說明:本實施例在以本實用新型技術方案為前提下進行實施,給出了詳細的實施方式和工作過程,但本發明的保護范圍不限于下述的實施例。
一種全自動太陽能硅片制絨清洗設備,包括機架、制絨清洗槽、干燥系統、單臂移載式機械手、自動進料臺、自動出料臺、微機控制系統、觸摸屏。制絨清洗槽、干燥系統分別固定于機架上;單臂移載式機械手與機架連接,位于制絨清洗槽前方;干燥系統一端與制絨清洗槽連接,另外一端與自動進出料臺連接,其底部固定在機架上,單臂移載式機械手固定在滑軌上并可以在滑軌上按照既定的程序移動,滑軌固定于機架上;微機控制系統、觸摸屏安裝于機架之上。
如圖1所示,本實施例包括機架10、自動進料臺1、自動出料臺15、抽排風系統4、若干排風接口12、一百級過濾器11、第一烘干槽13、第二烘干槽14、氣缸蓋7,自動進料臺1、自動出料臺15分別設于整個機架10的首末端,排風接口12安裝于機架10頂端,一百級過濾器11置于第一烘干槽13、第二烘干槽14的上方,機械手5置于制絨清洗槽9前方,清洗籃8放置在自動進料臺1上,制絨清洗槽9置于機架10底層,微機控制系統2、觸摸屏3安裝于機架10之上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





