[實用新型]影像儀工作臺底座無效
| 申請號: | 200820146641.8 | 申請日: | 2008-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN201284902Y | 公開(公告)日: | 2009-08-05 |
| 發明(設計)人: | 周文斌 | 申請(專利權)人: | 東莞市源興光學儀器有限公司 |
| 主分類號: | F16M11/00 | 分類號: | F16M11/00 |
| 代理公司: | 東莞市冠誠知識產權代理有限公司 | 代理人: | 羅伯碩 |
| 地址: | 523128廣東省東莞市東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 影像 工作臺 底座 | ||
技術領域
本實用新型涉及影像儀設備技術領域,特別是涉及一種影像儀工作臺底座。
背景技術
現有技術的一種影像儀工作臺底座整塊由鑄鐵制成,影像儀配備的電器元件裝在一個盒子里置于影像儀工作臺底座的后面,這顯得既不美觀、又占據空間。隨著影像儀設備技術的發展,影像儀工作臺底座也急需更新換代,人們迫切希望一種電器元件置于影像儀工作臺底座內、既美觀、產品檔次又高的影像儀工作臺底座問世。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是,克服上述現有技術存在的缺陷,提供一種電器元件置于影像儀工作臺底座內、既美觀、產品檔次又高的影像儀工作臺底座。
本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:影像儀工作臺底座,包括底部、正面和上面,其特征是:在正面和上面的連接部位設計有一斜面,在底部自后向前設計有一凹槽。
在上述技術方案中,在上面與凹槽對應部位設計有一個以上的通孔,在上面與底部對應部位至少設計有一個通孔。
在左側面、右側面或底部設計有一個以上的孔。
底部的長度為550mm~950mm,底部的寬度為500mm~750mm,底座的厚度為90mm~110mm。
凹槽的長度為430mm~680mm,凹槽的寬度為200mm~250mm,凹槽的深度為50mm~65mm。
制造影像儀工作臺底座選用的材料為花崗巖或大理石。
本實用新型的有益效果是:由于在底部自后向前設計有一凹槽,影像儀配備的電器元件可以置于該凹槽內,再用一塊鐵板或合金板將該凹槽閉合,避免了影像儀配備的電器元件裝在一個盒子里置于影像儀工作臺底座后面的現象;在正面和上面的連接部位設計有一斜面,制造影像儀工作臺底座選用的材料為花崗巖或大理石,從而使影像儀工作臺底座既美觀、產品檔次又高,節省了鑄鐵材料,利用了豐富的花崗巖或大理石資源。
附圖說明
圖1是本實用新型的仰視圖;
圖2是本實用新型的主視圖;
圖3是本實用新型的俯視圖;
圖4是本實用新型的立體圖;
圖5是本實用新型底部朝上的立體圖;
圖6是沿圖3中A-A線的剖視圖;
圖7是本實用新型的右視圖;
圖8是本實用新型的左視圖。
圖中,1、底部;2、凹槽;3、斜面;4、正面;5、上面。
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型作進一步詳細的說明。
實施例1,參見圖1至圖8,本實施例所述的一種影像儀工作臺底座,包括底部1、正面4和上面5,其特征是:在正面4和上面5的連接部位設計有一斜面3,在底部1自后向前設計有一凹槽2;在上面5與凹槽2對應部位設計有兩個通孔,在上面5與底部1對應部位設計有一個通孔;在左側面、右側面各設計有兩個孔,在底部1設計有四個孔;底部1的長度為950mm,底部1的寬度為750mm,底座的厚度為100mm;凹槽2的長度為680mm,凹槽2的寬度為250mm,凹槽2的深度為60mm;制造影像儀工作臺底座選用的材料為大理石。
實施例2,參見圖1至圖8,本實施例所述的一種影像儀工作臺底座,包括底部1、正面4和上面5,其特征是:在正面4和上面5的連接部位設計有一斜面3,在底部1自后向前設計有一凹槽2;在上面5與凹槽2對應部位設計有兩個通孔,在上面5與底部1對應部位設計有一個通孔;在左側面、右側面各設計有兩個孔,在底部1設計有四個孔;底部1的長度為550mm,底部1的寬度為500mm,底座的厚度為100mm;凹槽2的長度為430mm,凹槽2的寬度為200mm,凹槽2的深度為60mm;制造影像儀工作臺底座選用的材料為花崗巖。
實施例3,參見圖1至圖8,本實施例所述的一種影像儀工作臺底座,包括底部1、正面4和上面5,其特征是:在正面4和上面5的連接部位設計有一斜面3,在底部1自后向前設計有一凹槽2;在上面5與凹槽2對應部位設計有兩個通孔,在上面5與底部1對應部位設計有一個通孔;在左側面、右側面各設計有兩個孔,在底部1設計有四個孔;底部1的長度為650mm,底部1的寬度為580mm,底座的厚度為100mm;凹槽2的長度為480mm,凹槽2的寬度為200mm,凹槽2的深度為60mm;制造影像儀工作臺底座選用的材料為花崗巖。
以上所述的僅是本實用新型的三個優選實施方式。值得說明的是,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本實用新型原理的前提下,還可以對本實用新型作出若干變形和改進,故凡依本實用新型專利申請范圍所述的構造、特征及原理所做的等效變化或修飾,同樣屬于本實用新型專利申請保護的范圍。
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