[實用新型]無塵設備結構

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820142906.7
• 申請日: 2008-11-04
• 公開（公告）號: CN201311547Y
• 公開（公告）日: 2009-09-16
• 發(fā)明（設計）人: 侯帝光
• 申請（專利權）人: 邱碧青
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;H01L21/02
• 代理公司: 天津三元專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 錢 凱

技術領域

本實用新型涉及一種無塵設備，尤其涉及一種于其中進行黃光制程的無塵設備結構。

背景技術

所謂黃光制程是于芯片上涂布光阻劑后軟烤，以增加光阻劑在芯片表面附著力，再經(jīng)由對準以及曝光而將光罩上的元件設計圖形轉移到光阻，再通過烘烤以降低駐波效應，并將光阻顯影形成元件設計圖形，通過硬烤去除殘余溶劑，增加光阻強度。

然而，芯片于黃光制程中欲降低不良率，其制程環(huán)境無塵是非常重要的關鍵。在工業(yè)上即使塵粒子尺寸小于1微米，也可能阻礙芯片運作或降低其壽命。且，半導體需求尺寸持續(xù)縮小，塵粒更容易使芯片損壞或可靠度降低。而無塵室是一個人造的環(huán)境，里面含有的粒子遠低于一般的環(huán)境，借由在無塵室內進行黃光制程以避免塵粒子對芯片造成損壞或降低壽命，而隨著微制造技術和集成電路技術的快速成長，對無塵室潔凈的需求也相對提高。

而一般的無塵室是設置于廠房內，其于廠房中占用一定的空間，且設置無塵室的經(jīng)費與其規(guī)模大小成正比。此外，一般學校在半導體制程教學時，亦需于無塵工作室內進行，因此學校必須建立無塵室或者到業(yè)界廠房的無塵室實習，于教學上造成硬設備以及經(jīng)費的限制。

因此，如何使芯片于黃光制程中能達到與無塵室相同的無塵環(huán)境，且可縮小其占用空間及設置成本即為本實用新型的重點所在。

實用新型內容

本實用新型所要解決的主要技術問題在于，克服現(xiàn)有技術存在的上述缺陷，而提供一種無塵設備結構，可節(jié)省廠房使用空間以及無塵室建造的較高成本，亦可作為教學用，故學校不需再花費經(jīng)費建立無塵室即可于實習時進行黃光制程教學。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種無塵設備結構，其特征在于：至少一艙體，艙體中設有黃光制程設備，且艙體設有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進入的排塵裝置，艙體設有至少一艙門，以及至少一工作手套。

前述的無塵設備結構，其中艙體于艙門一側設有一過渡艙，此過渡艙設有一與該艙體的艙門對應設置的另一艙門，且亦設有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進入的排塵裝置。

前述的無塵設備結構，其中艙體于兩側分別設有一艙門，艙體于各艙門的一側設有一過渡艙。

前述的無塵設備結構，其中排塵裝置包括至少一將塵粒子排出的鼓風機以及至少一阻絕塵粒子進入的氣體過濾器。

前述的無塵設備結構，其中排塵裝置包括至少一將塵粒子排出的鼓風機以及至少一阻絕塵粒子進入的氣體過濾器。

前述的無塵設備結構，其中工作手套是設于艙體，且與艙體間具有防塵構造，且于設置工作手套的艙體上方具有一供操作者于制程中方便檢視艙內的斜角結構。

前述的無塵設備結構，其中艙體中設置的黃光制程設備包括一黃光專用的濕式工作臺(Wet?Bench)、一對準曝光機(Aligner)、一熱板(HotPlat)以及一旋涂機(Spin?Coater)。

人可將手借由工作手套置入艙體內對芯片進行黃光制程，因此相較于現(xiàn)有技術中人進人出的無塵室，不須占用廠房的一定空間即可完成芯片制程，故可節(jié)省廠房使用空間以及無塵室建造的較高成本，本實用新型的無塵設備結構亦可作為教學用，故學校不需再花費經(jīng)費建立無塵室即可于實習時進行黃光制程教學。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的平面俯視結構示意圖

圖2是本實用新型的平面?zhèn)纫暯Y構示意圖

圖3是本實用新型的第二實施例的平面俯視結構示意圖

圖4是本實用新型的第三實施例的平面俯視結構示意圖

具體實施方式

請參閱圖1至圖2，圖中所示為本實用新型所選用的實施例結構。

本實施例提供一種無塵設備結構，其包括：

至少一艙體1(本實施例中是以單一艙體為例)，艙體1中設有黃光制程設備2，且艙體1設有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進入的排塵裝置11，艙體1并設有至少一艙門12，以及至少一工作手套13。

在本實施例中，該艙體1于艙門12一側并設有一過渡艙3，此過渡艙3設有一與該艙體1的艙門12對應設置的另一艙門31，且亦設有至少一將塵粒子排出并阻絕塵粒子進入的排塵裝置32。

承上所述，本實施例的艙體1與過渡艙3的排塵裝置11、32包括至少一將塵粒子排出的鼓風機111、321以及至少一阻絕塵粒子進入的氣體過濾器112、322。

艙體1，且與艙體1間具有防塵構造(圖中未示)，且于設置工作手套13的艙體1上方具有一供操作者在制程中方便檢視艙內的斜角結構15。