[實用新型]吸納泥粒結構有效
| 申請號: | 200820139604.4 | 申請日: | 2008-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN201317745Y | 公開(公告)日: | 2009-09-30 |
| 發明(設計)人: | 陳清明 | 申請(專利權)人: | 陳清明 |
| 主分類號: | C04B32/00 | 分類號: | C04B32/00 |
| 代理公司: | 北京天平專利商標代理有限公司 | 代理人: | 孫 剛 |
| 地址: | 中國臺灣高雄*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸納 結構 | ||
技術領域
本實用新型有關一種吸附結構,尤其是一種吸納泥粒結構。
背景技術
吸附結構可用于多種場合,例如,常用的「植物培養土」如中國TW專利申請案號第095208356,一種植物培養土,其由眾多碎片狀的培養土體所組成,培養土體包含有一纖維基材,且于纖維基材兩側表面至少一側被覆有一活性布層;其中纖維基材上形成有眾多透孔,而活性布層系堅固被覆于纖維基材表面,該活性布層中形成有眾多呈不規則狀延伸的吸水透孔,再者活性布層主要由催化劑、觸媒劑、糊狀植物性淀粉、液態無粒狀聚乙烯醇等物質調制而成;據此,讓培養土體可利用活性布層的氣孔吸持水份與養份,不致任意滲出,組構成一高保持性、且可形成植物周遭生態更優質的環境。
上述的公知技術「植物培養土」,其被覆的活性布層融合多種非自然的物質與劑量,其制造成本或方法較煩復,且僅供構成培養植物的用土,有鑒于上述缺失弊端,本實用新型人認為其有急待改正的必要,針對以上不良處加以研究創作,遂以推出本實用新型吸納泥粒結構,其以更正優良的產品結構提升產品的功效。
發明內容
本實用新型目的在于,提供一種吸納泥粒結構,以克服上述傳統結構的缺陷,其可通過合理的內部結構,有效吸納必要的物質,用于構成培育植物、水產養殖、過濾污染源等的吸附結構。
根據上述目的,一種吸納泥粒結構,其特征在于:
其由水份與泥土混合構成大致的球形,該球形泥粒具有數微孔,所述各微孔在泥粒中呈不規則的回道。
其中,所述泥粒具有7個以上的微孔。
本實用新型有益效果:本實用新型利用水份與泥土為原料,將該泥粒經由二次高溫窯燒并經共振磁場處理,以使泥粒由內產生爆炸使該泥粒內部產生數個微孔,使之形成一種具有內部通道,且于泥粒表面具有開口的顆粒結構,可用于構成具有吸納能力的基礎結構,可構成有機培養基,使用于培育植物、水產養殖、過濾污染源等場合。
附圖說明
圖1:本實用新型泥粒表面的微孔示意圖;
圖2:本實用新型水份的氫鍵角度變化平面示意圖;
圖3:本實用新型泥粒剖面的回道示意圖。
具體實施方式
本實用新型有關一種吸納泥粒結構,[請一并參閱圖1、圖2、圖3]至少包括球形的泥粒1,其中,該泥粒1由水份2與泥土相互勻合,勻合后再經由手工配合電動網篩以搓合成大致呈球形的泥粒1,該泥粒1再經由二次高溫窯燒并以經由超導線圈、超導棒、電磁棒等所形成的一百萬高斯核磁共振磁場處理,泥粒1經由該共振磁場處理以提升水份2中的氧分子21負帶電荷使分子脫離分子鍵23形成負帶電荷單分子運動至10的14次方,此為分子運動的黃金比例,水份2中所含的氫分子22經由共振磁場將氫分子鍵23角度由154.79度瞬間縮小為89度,而泥粒1內部的水份2由內而外產生爆炸,經此爆炸使該泥粒1內部產生至少7個以上的微孔11,并微孔11內呈迂回的回道12。
本實用新型吸納泥粒結構的優點在于,將水份2與泥土結合以搓合成大致呈球形的泥粒1,且該泥粒1經由二次高溫窯燒并以一百萬高斯核磁共振磁場處理,以使水份2于泥粒1內部沸騰產生爆炸,此使該泥粒1可產生7個以上的微孔11并于該泥粒1內部呈不規則的回道12,據此,該泥粒1可適使用于農作植物培養土、水產養殖鋪底或喂食、過濾工業用水或污染源等多重用途。
本實用新型吸納泥粒結構可通過后敘實施例制得,[請一并參閱圖1、圖2、圖3]首先,將水份2與泥土相互均勻混合,混合后,以手工配合電動網篩以搓合成大致呈球形的泥粒1,之后將該泥粒1送至隧道窯燒并將溫度漸進升至600℃且窯燒達8小時,經第一道燒結的泥粒1再送進1200℃的隧道窯燒8小時,并通過超導線圈、超導棒、電磁棒等所形成的一百萬高斯核磁共振磁場將泥粒1內的水份2的氫分子22分子鍵23角度由原本的154.79度瞬間縮小為89度,且通過共振磁場處理,可提升水份2的氧分子21負帶電荷以使分子脫離分子鍵23形成負帶電荷單分子運動至10的14次方的分子運動黃金比例,使該泥粒1表層干化,而水份于內部沸騰產生爆炸至外部,而后于該泥粒1上可出現達7個以上的微孔11,經此,于該泥粒1內部亦出現有不規則狀的迂回回道12,此以成吸納泥粒結構。
唯以上所述,僅為本實用新型的一較佳實施例而已,當不能以之限定本實用新型的范圍。即大凡依本實用新型申請專利范圍所作的均等變化與修飾,皆應仍屬本實用新型專利涵蓋的范圍內。
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