[實用新型]真空濺鍍機的陰極構造

無效

• 申請號: 200820135886.0
• 申請日: 2008-10-10
• 公開（公告）號: CN201301337Y
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 劉辛
• 申請（專利權）人: 蘇州凡特真空濺鍍科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種真空濺鍍機的陰極構造，包含：輔助磁場產生裝置，其與真空濺鍍機的機架機械性連接；靶材，其與電場陰極相接并具有內側面與外側面，所述內側面朝向所述輔助磁場產生裝置，所述外側面朝向真空濺鍍機的轟擊帶電粒子；其特征在于：還包括干擾磁性片，所述干擾磁性片置于所述靶材的內側面且位于所述靶材與輔助磁場產生裝置之間。

2、如權利要求1所述的真空濺鍍機的陰極構造，其特征在于：所述干擾磁性片為具有永久磁性的物質或具有軟磁特性的導磁物質構成。

3、如權利要求1或2所述的真空濺鍍機的陰極構造，其特征在于：所述的真空濺鍍機的陰極構造進一步具有一連接承載金屬板，該連接承載金屬板位于該輔助磁場產生裝置與靶材之間且所述干擾磁性片位于該連接承載金屬板中。

4、如權利要求3所述的真空濺鍍機的陰極構造，其特征在于：所述的真空濺鍍機的陰極構造進一步具有一銦連結構造，該銦連結構造位于該連接承載金屬板及靶材之間。

5、如權利要求3所述的真空濺鍍機的陰極構造，其特征在于：所述的真空濺鍍機的陰極構造進一步具有一彈性靶材鎖固結構，以鎖固該靶材于該連接承載金屬板上。