[實用新型]曝光機的平臺模組

有效

• 申請號: 200820131976.2
• 申請日: 2008-08-22
• 公開（公告）號: CN201269969Y
• 公開（公告）日: 2009-07-08
• 發明（設計）人: 簡泰寬
• 申請（專利權）人: 志圣工業股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05K3/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 李樹明

【技術領域】

本實用新型涉及一種曝光機的平臺模組，特別是涉及一種具有上下相對位功能的曝光機的平臺模組。

【背景技術】

參閱圖1，為現有一種用以對電路板進行兩面曝光的曝光機所具有的平臺模組1，其包括一上平臺11、一下平臺12、數個設置在上平臺11的定位凹穴13以及數個設置在下平臺12的定位銷14，待曝光的電路基板100是可供放置在下平臺12上，接著驅動上平臺11往下鄰近下平臺12上方，使所述定位銷14嵌合于所述定位凹穴13，便可分別對電路基板100的底面與頂面進行曝光。

現有的這種定位銷14包括一固設在下平臺12的外套筒141、一穿設在外套筒141內的銷件142，以及一抵接在銷件142底端的壓縮彈簧143，且銷件142與外套筒141之間留有些微間隙，使得銷件142是可以相對于外套筒141上下位移，借此讓當上平臺11往下鄰近下平臺12并且使所述銷件142與定位凹穴13嵌合時，上平臺11仍可透過施加重力壓縮壓縮彈簧143，以調整上平臺11與電路板100之間的曝光距離。

然而，銷件142與外套筒141之間的間隙雖然讓銷件142具有可上下位移的自由度，但卻也容易讓銷件142產生水平方向的偏移，使得縱然上平臺11的定位凹穴13與下平臺12的銷件142相嵌合，但上平臺11與下平臺12之間卻因為銷件142與外套筒141之間的間隙而產生對位誤差(通常都會超過10μm以上)，不僅造成電路板兩面的曝光誤差，也使得上平臺11與下平臺12之間的對位校正需要耗費較多的時間。

因此，如何讓銷件142仍可上下位移的活動性，又可避免銷件142產生水平方向的位移以避免誤差產生，實為一可改進的課題。

【實用新型內容】

本實用新型的目的是在于提供一種可提高平臺上下對位的精度，進而減少電路板曝光誤差的曝光機的平臺模組。

本實用新型曝光機的平臺模組包含一下平臺、一位于該下平臺上方并可受驅動往下鄰近該下平臺的上平臺、數個設置于該上平臺的定位凹穴、數個設置于該下平臺并且分別對應所述定位凹穴的定位銷組，其特征在于每一定位銷組包括一銷件及一線性襯套。該銷件可彈性的相對于該下平臺上下位移并且具有一往上凸出該下平臺的凸出端，通過該上平臺鄰近該下平臺，該凸出端伸入該定位凹穴內。該線性襯套套設于該銷件，用以導引該銷件相對于該下平臺上下位移。

所述本實用新型曝光機的平臺模組，其中，各該定位銷組還包括一用以固設于該下平臺的外套筒，該銷件穿伸容置于該外套筒內，該線性襯套套設于該銷件與該外套筒之間，該外套筒內壁凸出形成有一凸緣，各該定位銷組還包括一鎖固于該外套筒頂端的頂蓋，該線性襯套位于該外套筒內并介于該凸緣與該頂蓋之間，該頂蓋具有一開孔供該銷件伸出。

所述本實用新型曝光機的平臺模組，其中，各該定位銷組還包括一結合于該外套筒底端的底蓋、一連接于該銷件底端的抵接板以及一壓縮彈性元件，該壓縮彈性元件抵接于該底蓋與該抵接板之間，該壓縮彈性元件可為一壓縮彈簧。

所述本實用新型曝光機的平臺模組，該平臺模組還包含數個定位本體，每一定位本體具有一上半段及一下半段，所述定位本體上半段固設于該上平臺，所述定位凹穴是分別由所述定位本體的下半段末端凹陷形成。

所述本實用新型曝光機的平臺模組，所述定位凹穴凹陷呈截頭圓錐狀，該凸出端大致呈截頭圓錐狀。

本實用新型的有益效果在于：通過線性襯套的設置，消除了銷件在水平方向的可活動性，同時也使銷件只有上下方向的活動自由度，使上平臺與下平臺的對位可更精確(誤差值可在5μm以下)，進而避免影響后續的電路板兩面的曝光精度。

【附圖說明】

圖1是現有一種曝光機的平臺模組的側視示意圖。

圖2是本實用新型較佳實施例所舉的曝光機的立體圖。

圖3是本實用新型曝光機的平臺模組的較佳實施例的立體圖。

圖4是該較佳實施例的側視圖。

圖5是該較佳實施例的定位銷組的立體圖。

圖6是該較佳實施例的定位銷組的分解圖。

圖7是該較佳實施例的定位銷組的剖面側視圖。

圖8是該較佳實施例的定位本體的透視圖。

【具體實施方式】

下面結合附圖及實施例對本實用新型進行詳細說明：