[實(shí)用新型]寬幅連續(xù)磁控濺射鍍膜輥正反螺旋流冷卻結(jié)構(gòu)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820117972.9 | 申請日: | 2008-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN201241182Y | 公開(公告)日: | 2009-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙慨;馮煜東;王藝;王志民 | 申請(專利權(quán))人: | 中國航天科技集團(tuán)公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京理工大學(xué)專利中心 | 代理人: | 張利萍 |
| 地址: | 730000*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 寬幅 連續(xù) 磁控濺射 鍍膜 正反 螺旋 冷卻 結(jié)構(gòu) | ||
1.寬幅連續(xù)磁控濺射鍍膜輥正反螺旋流冷卻結(jié)構(gòu),包括外不銹鋼薄層(1)、冷液進(jìn)出正反雙螺旋槽不銹鋼內(nèi)襯(2)、冷卻液導(dǎo)流管(5),鍍膜輥兩端端面(3)和旋轉(zhuǎn)軸(4);其特征是:外不銹鋼薄層(1)為圓柱筒體,冷液進(jìn)出正反雙螺旋流槽不銹鋼內(nèi)襯(2)為圓柱筒體,它緊貼在外不銹鋼薄層(1)下,冷卻液導(dǎo)流管(5)鑲嵌在冷液進(jìn)出正反雙螺旋槽不銹鋼內(nèi)襯(2)的雙螺旋槽內(nèi),通過鍍膜輥兩端端面(3)將外不銹鋼薄層(1)和冷液進(jìn)出正反雙螺旋槽不銹鋼內(nèi)襯(2)支撐在鍍膜輥旋轉(zhuǎn)軸(4)上,冷液導(dǎo)流管(5)進(jìn)出口在鍍膜輥同一側(cè)端面,進(jìn)出冷液兩管在冷液進(jìn)出正反雙螺旋槽不銹鋼內(nèi)襯(2)中并排緊靠組成雙管按照表面雙螺旋方式繞制到鍍膜輥同一側(cè)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





