[實用新型]光強調整結構及應用其的擴散膜無效
| 申請號: | 200820112613.4 | 申請日: | 2008-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN201218892Y | 公開(公告)日: | 2009-04-08 |
| 發明(設計)人: | 黃弘毅;李祈煌 | 申請(專利權)人: | 達方電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02B5/02;B32B33/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 魏曉剛 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調整 結構 應用 擴散 | ||
1.一種光強調整結構,用以設置在一背光模塊的一擴散膜中,其特征在于,該光強調整結構包括:
一珠體;以及
一光強調整劑,設置于該珠體,用以改變一光線中的至少一特定波長的強度。
2.根據權利要求1所述的光強調整結構,其特征在于,該光強調整劑設置在該珠體內。
3.根據權利要求1所述的光強調整結構,其特征在于,該光強調整劑包覆該珠體。
4.根據權利要求1所述的光強調整結構,其特征在于,該珠體的粒徑為0.8~300微米。
5.根據權利要求1所述的光強調整結構,其特征在于,該珠體的材料包括高分子樹脂與無機玻璃的至少其中之一。
6.根據權利要求1所述的光強調整結構,其特征在于,該珠體實質上為一球體。
7.根據權利要求1所述的光強調整結構,其特征在于,該珠體實質上為一橢圓體。
8.一種擴散膜,用以設置在一背光模塊內,其特征在于,該擴散膜包括:
一基板;以及
多個光強調整結構,設置在該基板上,該些光強調整結構分別包括:
一珠體;及
一光強調整劑,設置于該珠體,用以改變一光線中的至少一特定波長的強度。
9.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,該光強調整劑設置在該珠體內。
10.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,該光強調整劑包覆該珠體。
11.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,該珠體的粒徑為0.8~300微米。
12.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,該珠體的材料包括高分子樹脂與無機玻璃的至少其中之一。
13.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,該珠體實質上為一球體。
14.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,該珠體實質上為一橢圓體。
15.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,還包括:
一粘附層,設置在該基板上,使得該些光強調整結構粘附在該基板上。
16.根據權利要求15所述的擴散膜,其特征在于,該粘附層具有多個聚光結構,用以導引該光線朝一方向投射。
17.根據權利要求15所述的擴散膜,其特征在于,該光強調整劑還設置在該粘附層內。
18.根據權利要求8所述的擴散膜,其特征在于,還包括:
一粘附層,設置在該基板上,使得該些光強調整結構粘附在該基板上;以及
一聚光層,設置在該粘附層上,該聚光層具有多個聚光結構,用以導引該光線朝一方向投射。
19.根據權利要求18所述的擴散膜,其特征在于,該該些光強調整結構還設置在該聚光層內。
20.根據權利要求18所述的擴散膜,其特征在于,該光強調整劑還設置在該粘附層內。
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