[實(shí)用新型]噴嘴結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200820112310.2
• 申請日: 2008-08-21
• 公開（公告）號: CN201244520Y
• 公開（公告）日: 2009-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉秋淵;蔡世財(cái)
• 申請（專利權(quán)）人: 耐落螺絲（昆山）有限公司
• 主分類號: B05B1/02
• 分類號: B05B1/02
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司
• 代理人: 王建國

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型關(guān)于一種噴嘴結(jié)構(gòu)，特指具有使流體于噴射時(shí)流體的流量可均勻分布的結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

參見圖4所示，為一現(xiàn)有技術(shù)的噴嘴用于噴涂流體于一工件的螺牙部20的實(shí)施示意圖，于一噴嘴中包含有一本體30，該本體30為一中空圓管，其分別于兩端形成有一入料口32以及一噴射口31，該現(xiàn)有技術(shù)的噴嘴30于使用時(shí)，以其噴射口31朝向螺牙部20上欲噴涂流體的位置，而流體經(jīng)由入料口32進(jìn)入該本體30，進(jìn)而由該噴射口31噴出，而涂覆于螺牙部20表面，一般而言，欲噴涂流體的面積會大于該噴射口31的面積，因此噴嘴30或工件會移動，而使流體可噴涂至所有欲噴涂的位置。

然而，由于該現(xiàn)有技術(shù)的噴嘴，其形成有噴射口31的端面，呈平面狀，因此該噴射口31的平面至形成于工件圓桿上的螺牙部20表面的距離因部位而異而并非等距，因此該噴嘴用以噴涂流體于螺牙部20，或者其它呈圓桿狀的工件上時(shí)，距離噴射口31較近的部位往往會累積較多的流體，而遠(yuǎn)離噴射口31的部位上的流體量較少，造成流體涂布厚度并不均勻，而于噴涂制程的控制上造成不便。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于前述現(xiàn)有技術(shù)的不足點(diǎn)，本實(shí)用新型提供一種噴嘴結(jié)構(gòu)，具有一呈帶狀弧面的噴射口，期能解決現(xiàn)有技術(shù)的噴嘴，用以噴涂流體于圓桿狀工件時(shí)，流體分布不均勻的缺點(diǎn)。

為達(dá)成上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型所使用的技術(shù)手段為提供一噴嘴結(jié)構(gòu)，該噴嘴結(jié)構(gòu)包含有一本體，該本體為中空件，并于兩端分別形成有一入料口以及一噴射口，其中，形成有該噴射口的端面形狀，呈帶狀弧面。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于，由于該噴射口的開口形狀是配合工件外形而呈弧面狀，由噴射口端面各部位至工件端面的距離較為平均，因此本實(shí)用新型的噴嘴結(jié)構(gòu)用于噴涂流體于螺牙部等等呈圓桿狀的工件上時(shí)，可避免流體集中噴涂于某些部位，能夠達(dá)成使流體分布較均勻的目的。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的立體外觀圖。

圖2及圖3為本實(shí)用新型的實(shí)施狀態(tài)示意圖。

圖4為一現(xiàn)有技術(shù)的噴嘴的實(shí)施狀態(tài)示意圖。

具體實(shí)施方式

參見圖1所示，本實(shí)用新型的噴嘴結(jié)構(gòu)包含有一本體10，其中：

該本體10為一中空件，其于一端的開口處形成有一入料口12，該入料口12的截面呈圓形，而本體10的壁面由入料口12處朝向另一端逐漸外擴(kuò)且形成為矩形，并于該端開口處形成有一呈矩形的噴射口11，該端的兩相對壁面并于開口處內(nèi)縮呈一弧狀，使該噴射口11的端面呈一帶狀弧面，而可配合使用于將流體噴涂于一呈圓桿狀的工件上，并且該帶狀弧面可依工件的外形不同，而設(shè)計(jì)為不同的弧度。

本實(shí)用新型的噴嘴結(jié)構(gòu)，其于使用時(shí)以前述噴射口11朝向工件上欲噴涂流體的部位，而流體經(jīng)由前述入料口12進(jìn)入于本體10，進(jìn)而經(jīng)由噴射口11噴出，而噴涂于工件上。

進(jìn)一步參照圖2及圖3所示，為本實(shí)用新型用以噴涂流體于一形成于圓桿上的螺牙部20的實(shí)施示意圖，其中，本體10位于螺牙部20的徑向上，而噴射口11朝向于螺牙部20，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于，由于其噴射口11的端面配合螺牙部20而呈帶狀弧面，噴射口11端面整體可較貼近于螺牙部20的表面，因此噴射口11上各端面位置至螺牙部20的距離約略相等，當(dāng)流體由噴射口11噴出后，流體可平均分布于螺牙部20的噴涂位置上，使涂層厚度較為均勻，可以改善現(xiàn)有技術(shù)的噴嘴噴涂不均勻或噴涂制程控制不易的缺點(diǎn)。