[實(shí)用新型]一種消相干和勻場(chǎng)裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200820109447.2
• 申請(qǐng)日: 2008-07-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201285471Y
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-08-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 成華;畢勇;顏世鵬;張瑛;賈中達(dá)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 北京中視中科光電技術(shù)有限公司;中國(guó)科學(xué)院光電研究院
• 主分類(lèi)號(hào): G02B27/09
• 分類(lèi)號(hào): G02B27/09;G02B5/02;G02B1/10;G02B1/02
• 代理公司: 北京泛華偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 王 勇

1.一種用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，包括，

漫反射板，具有漫反射面，所述漫反射面用于接收并漫反射所述激光光束以得到多束散射激光；

全反射腔，用于在其內(nèi)壁全反射所述散射激光并產(chǎn)生定向輸出的出射光束，其中，所述全反射腔具有相對(duì)的兩端，所述漫反射板設(shè)置在所述全反射腔的一端并覆蓋所述端，其漫反射面朝向全反射腔；

勻化透鏡，所述勻化透鏡設(shè)置在所述出射光束的光路中，以使得所述出射光束在到達(dá)目標(biāo)區(qū)域時(shí)照度均勻分布。

2.如權(quán)利要求1所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中還包括光束引導(dǎo)裝置，用于將所述激光光束導(dǎo)向所述漫反射板。

3.如權(quán)利要求1所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，還包括偏振透射元件，所述偏振透射元件僅允許所述定向輸出的出射光束中沿某方向偏振的光束透過(guò)。

4.如權(quán)利要求1所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，還包括電機(jī)，所述電機(jī)用于驅(qū)動(dòng)所述漫反射板在自身平面內(nèi)發(fā)生使得所述激光光束在所述漫反射板上的入射點(diǎn)時(shí)刻變換的轉(zhuǎn)動(dòng)。

5.如權(quán)利要求1所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，還包括電機(jī)，所述電機(jī)用于驅(qū)動(dòng)所述光束引導(dǎo)裝置發(fā)生使得所述激光光束在所述漫反射板上的入射點(diǎn)時(shí)刻變換的轉(zhuǎn)動(dòng)或振動(dòng)。

6.如權(quán)利要求1所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，所述勻化透鏡為自由曲面透鏡或中繼透鏡組。

7.如權(quán)利要求1所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中所述漫反射板的漫反射面涂覆有高反射率的漫反射材料BaSO₄或CaSO₄，或者所述漫反射板由具有粗糙漫反射面的高反射率陶瓷制成。

8.如權(quán)利要求2所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，所述光束引導(dǎo)裝置為帶孔全反射鏡或局部反射鏡或僅允許以45°入射的光束透過(guò)的鍍制特殊膜的玻璃板。

9.如權(quán)利要求1-8之一所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，所述全反射腔為軸對(duì)稱(chēng)結(jié)構(gòu)或旋轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)結(jié)構(gòu)。

10.如權(quán)利要求9所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，所述全反射腔形狀為CPC形或棱臺(tái)形或棱柱形。

11.如權(quán)利要求1-8之一所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，所述全反射腔為中空腔體，所述中空腔體的內(nèi)壁鍍有針對(duì)所述激光光束的全反膜。

12.如權(quán)利要求1-8之一所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置，其中，所述全反射腔為由均勻透光物質(zhì)制成的實(shí)心體，所述實(shí)心體的兩端面鍍有針對(duì)所述激光光束的增透膜，外壁拋光并鍍制或不鍍制針對(duì)所述激光光束的全反膜。

13.一種采用權(quán)利要求1-8之一所述的用于激光光束的消相干勻場(chǎng)裝置的激光顯示系統(tǒng)。