[實用新型]連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置

無效

• 申請號: 200820093019.5
• 申請日: 2008-03-26
• 公開（公告）號: CN201165556Y
• 公開（公告）日: 2008-12-17
• 發明（設計）人: 蘇騫
• 申請（專利權）人: 蘇騫
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司
• 代理人: 郭偉剛;張秋紅

1、一種連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置，包括鍍槽、氣缸，其中氣缸通過氣缸固定板豎直固定在鍍槽內上方，氣缸活塞桿下端固定有水平的上掩膜壓板，鍍槽內與上掩膜壓板對應設有水平的下掩膜壓板，其特征在于，在氣缸固定板上固定有至少兩個氣缸，所有氣缸相對于上掩膜壓板中心對稱設置，在氣缸固定板上還設有上掩膜壓板的導向機構，氣缸推動上掩膜壓板沿導向機構上下移動。

2、根據權利要求1所述的連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置，其特征在于，所述上掩膜壓板的導向機構包括豎直導向柱、氣缸固定板上開設的豎直導向孔，導向柱下端固定在上掩膜壓板頂面上，上部穿裝在導向孔中，并沿導向孔上下移動。

3、根據權利要求1或2所述的連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置，其特征在于，所述的氣缸相對上掩膜壓板中心設置三個，其中，中心氣缸對應于上掩膜壓板的中心設置，兩側氣缸對稱于中心氣缸設置。

4、根據權利要求3所述的連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置，其特征在于，上掩膜壓板由上掩膜膠模與上安裝板組成，二者形狀配合并固定連接在一起，下掩膜壓板由下掩膜膠模與下安裝板組成，二者形狀配合并固定連接在一起。

5、根據權利要求4所述的連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置，其特征在于，導向機構在中心氣缸兩側各設置一個。

6、根據權利要求5所述的連續選擇電鍍的掩膜壓板裝置，其特征在于，導向孔內設有襯套，襯套與導向柱滑動配合。