[實(shí)用新型]光學(xué)分析讀數(shù)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200820084701.8 | 申請(qǐng)日: | 2008-03-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201210144Y | 公開(公告)日: | 2009-03-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·P·菲蘭;陳英斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 艾博生物醫(yī)藥(杭州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/75 | 分類號(hào): | G01N21/75 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 徐關(guān)壽 |
| 地址: | 310018浙江省杭州市*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 分析 讀數(shù) 裝置 | ||
1.一種光學(xué)分析讀數(shù)裝置,包括含有空間上分離的參比區(qū)域、檢測(cè)區(qū)域和控制 區(qū)域的試劑條,以及至少一個(gè)光源,能夠發(fā)出入射到該試劑條上的光,其特 征在于,該光源包括三個(gè)分別對(duì)應(yīng)該試劑條上三個(gè)區(qū)域的發(fā)光二極管,該裝 置還包括一個(gè)能夠接受該試劑條上的反射光的光檢測(cè)器。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,該發(fā)光二極管和該光 檢測(cè)器位于該試劑條的同側(cè),并與該試劑條橫向偏移。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,所述的光檢測(cè)器位于 參比區(qū)域和控制區(qū)域之間,并與該試劑條橫向偏移。
4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,所述的光檢測(cè)器正對(duì) 于試劑條的檢測(cè)區(qū)域,并與該試劑條橫向偏移。
5.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,所述的三個(gè)發(fā)光二極 管之間設(shè)有柵欄。
6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,還包括防止第三個(gè)發(fā) 光二極管的光照射到該參比區(qū)域的第一個(gè)柵欄,以及防止第一個(gè)發(fā)光二極管 的光照射到控制區(qū)域的第二個(gè)柵欄。
7.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,該發(fā)光二極管和該光 檢測(cè)器之間設(shè)有隔板。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,該光檢測(cè)器接受該試 劑條上各個(gè)區(qū)域的光強(qiáng)相同。
9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,所述的光檢測(cè)器完全 接受所述的檢測(cè)區(qū)域上的全部光。
10.如權(quán)利要求1至9任一所述的光學(xué)分析讀數(shù)裝置,其特征在于,所述的光檢 測(cè)器包括光電二極管。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





