[實用新型]一種跨接式納米聚焦X射線組合透鏡無效
| 申請號： | 200820081869.3 | 申請日： | 2008-01-07 |
| 公開（公告）號： | CN201156443Y | 公開（公告）日： | 2008-11-26 |
| 發明（設計）人： | 樂孜純;董文;梁靜秋 | 申請（專利權）人： | 浙江工業大學 |
| 主分類號： | G21K1/06 | 分類號： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 杭州天正專利事務所有限公司 | 代理人： | 王兵;袁木棋 |
| 地址： | 310014*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 跨接式 納米 聚焦 射線 組合 透鏡 | ||
1、一種跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：包括一個一級X射線組合透鏡、一個二級X射線組合透鏡和一個光軸校準器共同組成，所述一級X射線組合透鏡和二級X射線組合透鏡固定于所述光軸校準器上，入射X射線束首先射入所述一級X射線組合透鏡，經所述一級X射線組合透鏡聚焦并出射后，射入所述二級X射線組合透鏡再次聚焦，所述二級X射線組合透鏡與所述一級X射線組合透鏡之間有由所述一級X射線組合透鏡的焦斑尺寸和所述二級X射線組合透鏡的幾何口徑共同確定的間隔。
2、如權利要求1所述的跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：所述一級X射線組合透鏡朝向入射X射線束的表面和上表面，以及所述二級X射線組合透鏡朝向所述一級X射線組合透鏡的表面和上表面，都刻有寬2微米的標識線；所述光軸校準器與所述一級X射線組合透鏡和所述二級X射線組合透鏡接觸的表面，刻有寬2微米的2條標識線，所述2條標識線之間間隔2微米。
3、如權利要求1或2所述的跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：所述一級X射線組合透鏡由30-60個依次同軸排布的拋物面形透鏡單元組成，所述拋物面形透鏡單元開有敞口空氣隙，所述空氣隙的截面形狀為拋物面形。
4、如權利要求3所述的跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：所述二級X射線組合透鏡由40-80個依次同軸排布的拋物面形透鏡單元組成，所述拋物面形透鏡單元開有敞口空氣隙，所述空氣隙的截面形狀為拋物面形。
5、如權利要求4所述的跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：所述一級X射線組合透鏡的幾何口徑為400-1000微米；所述二級X射線組合透鏡的幾何口徑為80-400微米；所述一級X射線組合透鏡和二級X射線組合透鏡的厚度范圍在20-400微米。
6、如權利要求5所述的跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：所述一級X射線組合透鏡和所述二級X射線組合透鏡材料可以為下列之一：①硅、②鋁、③氧化鋁、④PMMA。
7、如權利要求5所述的跨接式納米聚焦X射線組合透鏡，其特征在于：所述光軸校準器的材料可以是下列之一：①金屬材料、②有機材料、③硅。
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