[實用新型]帶流量補償的氧濃度調節裝置在審
| 申請號: | 200820080763.1 | 申請日: | 2008-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN201189346Y | 公開(公告)日: | 2009-02-04 |
| 發明(設計)人: | 閆全國 | 申請(專利權)人: | 北京航天長峰股份有限公司 |
| 主分類號: | A61M16/00 | 分類號: | A61M16/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100854北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流量 補償 濃度 調節 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種氧濃度調節裝置,尤其是涉及以文秋里閥為空氧混合裝置的帶流量補償的氧濃度調節裝置。屬于醫療設備制造技術領域。
背景技術
呼吸機在臨床上主要用于治療呼吸衰竭病人,其工作原理是利用高壓氣體強行輔助病人呼吸,病人吸入的氣體氧濃度高低對治療效果有直接影響,能夠調節病人吸入氣體的氧濃度意義重大。目前的技術是利用氧氣和空氣兩種高壓氣體通過一個空氧混合裝置改變兩種氣體的配比濃度達到輸出氣體的氧濃度可調,氧濃度可調范圍為21%~100%;其前提條件是必需有兩種高壓氣體——氧氣和空氣。另一種是使用一種氧氣,利用文秋里閥的氧濃度調節裝置,其缺點是結構復雜,組裝調試困難,氧濃度調節范圍窄。例如,通過調節高壓氧氣流量來控制輸出氣體的氧濃度時,會出現輸出氣體的流量變化大;通過調節側口吸入的空氣流量來控制輸出氣體的氧濃度時,當減小空氣吸入量增加氧氣濃度時輸出流量會減少,當增大空氣吸入量減小氧氣濃度時輸出流量會增大。
發明內容
為了克服現有的氧濃度調節裝置必須使用兩種高壓氣體的缺陷,以及利用文秋里閥的氧濃度調節裝置中存在的輸出氣體流量變化大的缺陷,本實用新型提供了一種帶流量補償的氧濃度調節裝置,可以有效地克服上述缺陷。
本實用新型的帶流量補償的氧濃度調節裝置,不使用高壓空氣,只用一種高壓氧氣,實現輸出氣體的流量恒定和氧濃度可調的目的,氧濃度的可調范圍達到37%~100%。本實用新型的方案如下:
帶流量補償的氧濃度調節裝置,由文秋里管和濃度控制盤構成;文秋里管包括:氣體入口、噴嘴、側口、氣體出口;側口位于文秋里管的噴嘴處,側口設有濃度控制盤,與大氣連通。濃度控制盤還設有一個氧氣補償口,氧氣補償口接通高壓氧氣。
濃度控制盤設有閥桿、分流片、隔流片和密封墊,分流片設有分度氣孔,轉動閥桿時轉動分流片,能夠同時調整空氣吸入口的截面積和氧氣補償口的截面積,同時改變空氣吸入流量和氧氣補償量,從而實現輸出氣體的氧氣濃度既可調節又保持流量恒定的目的。
工作時,高壓氧氣通過氣體入口進入文秋里管,通過噴嘴時產生負壓;負壓從側口吸入大氣中的空氣生成空氣和氧氣的混合氣體,混合氣體從氣體出口輸出。濃度控制盤能夠同時調整空氣吸入口的截面積和氧氣補償口的截面積,同時改變空氣吸入流量和氧氣補償量:空氣吸入越多,氧氣補償越少,空氣吸入越少,氧氣補償越多,從而實現輸出氣體的氧氣濃度既可調節又保持流量恒定的目的。氧濃度可調范圍37%~100%。
本實用新型不使用高壓空氣,只用一種高壓氧氣,能夠改變輸出氣體的氧氣濃度;通過濃度控制盤設有的氧氣補償口實現流量補償,具有結構簡單、使用方便、輸出氣體氧氣濃度可調、流量恒定的優點。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明,但并非限制本實用新型的使用范圍。
圖1是本實用新型的帶流量補償的氧濃度調節裝置示意圖;
圖2、圖3是帶流量補償的氧濃度調節裝置組裝示意圖;
圖4是閥桿結構圖。
圖中,文秋里管(1)、噴嘴(2)、氣體入口(3)、側進氣口(4)、氣體出口(5)、濃度控制盤(6)、側口(7)、氧氣補償口(8)、閥體(9)、閥桿(10)、銷子(11)、密封圈(12)、分流片(13)、螺釘(14)、隔流片(15)、密封墊(16)。
圖1中,高壓氧氣從氣體入口(3)進入文秋里管(1),通過噴嘴(2)時產生負壓;負壓從側口(7)吸入大氣中的空氣生成空氣和氧氣的混合氣體,混合氣體從氣體出口(5)輸出。濃度控制盤(6)用來控制吸入空氣和氧氣補償的流量。
圖2中,濃度控制盤(6)設有閥桿(10)和分流片(13)、隔流片(15)、密封墊(16),分流片(13)上設有分度氣孔,轉動分流片(13)能夠同時調整空氣吸入口的截面積和氧氣補償口的截面積;轉動閥桿(10)時轉動分流片(13),實現輸出氣體的氧氣濃度既可調節又保持流量恒定。
具體實施方式
實施例1、
帶流量補償的氧濃度調節裝置,由文秋里管(1)和濃度控制盤(6)構成;文秋里管(1)包括:氣體入口(3)、噴嘴(2)、側口(7)、氣體出口(5);側口(7)位于文秋里管(1)的噴嘴(2)處,側口(7)設有濃度控制盤(6),與大氣連通。濃度控制盤(6)還設有一個氧氣補償口(8),氧氣補償口(8)接通高壓氧氣。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京航天長峰股份有限公司,未經北京航天長峰股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200820080763.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





