[實用新型]利用前向散射輻射檢查物體的設備無效
| 申請號: | 200820080492.X | 申請日: | 2008-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN201222039Y | 公開(公告)日: | 2009-04-15 |
| 發明(設計)人: | 王學武;鐘華強;李清華;王小兵 | 申請(專利權)人: | 清華大學;同方威視技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04;H05G1/02 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 王波波 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 散射 輻射 檢查 物體 設備 | ||
1、一種利用前向散射輻射檢查物體的設備,其特征在于包括:
產生高能射線的輻射源;
第一準直系統,使得輻射源可產生扇形的第一輻射,同時產生與第一輻射成預定角度的第二輻射;
散射體,用于從所述第二輻射產生前向散射輻射;
第二準直系統,讓散射體產生的前向散射輻射以一點源形式向被檢物體發射扇形束;
第一探測器陣列,探測第一輻射穿透被檢物體的第一穿透值;
第二探測器陣列,探測前向散射輻射穿透被檢物體的第二穿透值;以及
與第一和第二探測器陣列相連的處理器,對第一和第二探測值進行處理,得到物體的材料屬性。
2、如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述的輻射源是粒子加速器、X光機或放射性同位素。
3、如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述的散射體的中心與產生輻射源的發射點在同一水平高度。
4、如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述第二準直系統為一由重金屬構成的輻射狀準直器,輻射的中心點為散射體的中心。
5、如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述的第二準直系統是一雙喇叭口狀的準直系統。
6、如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述第一探測器陣列和所述第二探測器陣列相互平行,并在垂直于物體運動方向上對齊。
7、一種利用前向散射輻射檢查物體的設備,其特征在于包括:
能產生成預定角度的第一輻射和第二輻射的加速器;
從第二輻射產生前向散射輻射的散射體;
第一準直系統,讓第一輻射成扇形狀發射;
第二準直系統,讓第二輻射與散射體相互作用后產生的前向散射成扇形狀發射;
第一探測器陣列,探測第一輻射穿透被檢物體的第一穿透值;
第二探測器陣列,探測前向散射輻射穿透被檢物體的第二穿透值;
與第一和第二探測器陣列相連的處理器,對第一和第二穿透值進行處理,得到物體的材料屬性;
控制系統,與所述的加速器和所述第一和第二探測器陣列連接,用于改變輻射源的工作參數,以及與探測器系統的同步采集。
8、如權利要求7所述的設備,其特征在于,所述的散射體的中心與第一輻射的發射點在同一水平高度。
9、如權利要求7所述的設備,其特征在于,所述第一準直系統和第二準直系統完全相同。
10、如權利要求7所述的設備,其特征在于,所述第一探測器陣列和所述第二探測器陣列相互平行,并在垂直于物體運動方向上對齊。
11、一種利用前向散射輻射檢查物體的設備,其特征在于包括:
能產生成高能射線的輻射源;
從所述高能射線產生前向散射輻射的散射體;
第一探測器陣列,探測第一輻射穿透被檢物體的第一穿透值;
第二探測器陣列,探測前向散射輻射穿透被檢物體的第二穿透值;
第一準直系統,設置在第一探測器陣列前;
第二準直系統,設置在第二組探測器陣列前,準直與第一輻射成一定角度的前向散射;
與所述第一和第二探測器陣列相連的處理器,用于對第一和第二穿透值進行處理,以得到物體的材料屬性。
12、如權利要求11所述的設備,其特征在于,所述散射體位于輻射源前,用于產生前向散射輻射。
13、如權利要求11所述的設備,其特征在于,所述的第一探測器陣列和第二探測器陣列在垂直于物體運動方向上有偏差。
14、如權利要求11所述的設備,其特征在于,所述的處理器適用于匹配兩束不同輻射與物體同一部分相互作用后的穿透值。
15、如權利要求11所述的設備,其特征在于,所述的第二準直系統排列成一圓弧,該圓弧的圓心即為散射體的中心。
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