[實用新型]復合導電膜

無效

• 申請號: 200820063419.1
• 申請日: 2008-05-15
• 公開（公告）號: CN201191516Y
• 公開（公告）日: 2009-02-04
• 發明（設計）人: 甘國工
• 申請（專利權）人: 甘國工
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B5/00;B32B7/12;B32B7/02;B32B9/00;G06F3/041;G06F3/03
• 代理公司: 成都立信專利事務所有限公司
• 代理人: 江曉萍

技術領域：

本實用新型涉及具有高透過率和高耐久性的復合導電膜。

背景技術：

傳統的觸摸屏用的導電薄膜通常是直接在柔性基材上濺鍍或者涂布導電層而成。這種方式的導電膜的透過率不高，所以設置在觸摸屏下的畫面通常偏暗。經過使用者的多次觸摸后，導電層容易斷裂引起電阻值變化，從而導致觸電計算的位置漂移或操作無反應。

如申請號為02803118.0，名稱為透明導電性層疊體及使用該層疊體的透明觸摸面板的專利申請，公開了一種得到高透光的導電性層疊體膜，在有機高分子膜的至少一個面上依次疊層光學干涉層，透明導電層，光學干涉層由高折射率層和低折射率層構成、且低折射率層與透明導電層連接，光學干涉層由交聯聚合物構成的透明導電性疊層體中，前述光學干涉層含有由金屬氧化物及/或金屬氟化物構成的一次粒徑在100nm以下的超微粒子A、以及/或者在高折射率層和低折射率層的至少其中之一內含有平均一次粒徑在光學干涉層的膜厚1.1倍以上、并且在1.2μm以下的超微粒子B，其含量在交聯聚合物的0.5重量％以下。該專利申請公開了用精密涂布的方式在導電膜層和柔性基層之間形成光學干涉層的方法，但事實上，精密涂布的方式設備門檻高，穩定性差，且容易形成微觀島狀表面，造成至少數百nm乃至μm級別的表面起伏，同時疊加的層數越多則不平度越無規律或越嚴重，造成基于其上的透明導電層的厚度也不均勻，嚴重干擾電阻值的均勻度。其次，涂布方式的膜層本身實際上大多是宏觀非晶態，形成的晶體顆粒都過于小，細小的晶體粒子間的結合力弱，在外力的作用下會發生形變，不利于觸摸屏的性能穩定。另外考慮到用精密涂布方式的膜層楊氏模量最高也只有幾GPa，且多數為百MPa，而如果此時ITO薄膜為濺射制備的，楊氏模量在幾十甚至上百GPa，就像玻璃放在沙灘上，受壓時斷裂的幾率大大增加；如果導電層也為涂布方式制備的，如上所述，其本身的耐久性也不高，在強外力的作用下會發生形變導致光學性質及電阻變化。其次，精密涂布方式的可控性很差，很難做到膜厚的微調，并且要制造50nm以下的均勻薄膜幾乎是不可能的，而在這些方面，磁控濺射體現出了極大的優勢。再次，如該申請所述的在光學干涉層摻雜有超微粒子，這樣做會增加觸摸屏的霧度，降低圖像的清晰度。

又如申請號200580012780.0，名稱為透明導電性層疊體及觸摸屏的申請，該申請公開了一種透明導電性層疊體，在厚度為2～120μm的透明薄膜基材的一側表面，按照透明的第一電介質薄膜、透明的第二電介質薄膜和透明導電性薄膜的順序依次層疊，在所述薄膜基材的另一表面，通過透明的粘合劑層貼合透明基體而成，第二電介質薄膜是無機物或有機物和無機物的混合物，形成上述導電性薄膜的混合物，形成上述導電性薄膜材料的結晶中，最大粒徑為300nm或更小的結晶含量超過50面積％。所述透明導電性層疊體高度地滿足用作觸摸屏的彎曲筆輸入耐久性，但也同樣的面臨涂布方式的眾多問題(如前面所述)。同時涂布方式的薄膜為非晶態，磁控濺射為均勻結晶形態。已知導電晶粒的尺寸越大，晶粒粒徑分布越均勻，薄膜整體導電性越好越穩定，所以涂布方式的膜層導電性及均勻性不如磁控濺射的膜層，如果要達到相同的表面電阻值，涂布導電膜的厚度要大于濺射導電膜的厚度，較高的厚度無疑增加了材料的光吸收并降低了整體透過率，而且降低了薄膜強度。值得一提的是，該申請最后的部分實施例也舍棄涂布方式，轉用PVD的電子束蒸發鍍膜方法，但是電子束蒸發鍍膜方法形成的膜層附著力不如磁控濺射形成的膜層牢度高、致密性好、均勻性好，另外電子束蒸發鍍膜方法蒸發到基材上的材料不是離子化，所以無法實現反應鍍膜，而磁控濺射方法可以實現反應濺射，如濺射Ti金屬或Nb與氧氣反應得到折射率高的金屬氧化物材料，又如濺射Si與氮氣反應生成Si₃N₄，或與氧氣反應生成SiO₂，以及這樣形成的高折射率與低折射率搭配的高透光學膜系。

實用新型內容：

本實用新型的目的是為了克服以上不足，提供一種具有高透過率及高耐久性的復合導電膜。

本實用新型的目的這樣來實現的：