[實用新型]掃描模塊及使用該掃描模塊的掃描裝置

無效

• 申請號: 200820057458.0
• 申請日: 2008-04-18
• 公開（公告）號: CN201178448Y
• 公開（公告）日: 2009-01-07
• 發明（設計）人: 盛少瀾;王志益;鄒宗穎
• 申請（專利權）人: 虹光精密工業(蘇州)有限公司
• 主分類號: H04N1/028
• 分類號: H04N1/028;H04N1/04
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所
• 代理人: 徐申民;張惠萍

1.一種掃描模塊，包括：

發光二極管光源，用以發射一光線；

反射組件，所述的發光二極管光源面向所述反射組件，所述反射組件用以反射所述的光線，且所述反射組件反射后的所述光線投射至待掃描文件；以及

光學模塊，用以接收從所述待掃描文件反射的所述光線；

其特征在于，從所述發光二極管光源發射的所述光線投射于所述待掃描文件之前，所述的反射組件至少反射所述光線一次。

2.如權利要求1所述的掃描模塊，其特征在于，自所述發光二極管光源發射出的所述光線以平行于所述待掃描文件平面的方向投射于所述反射組件。

3.如權利要求2所述的掃描模塊，其特征在于，所述掃描模塊還包括：

承架，所述的發光二極管光源及反射組件設置于所述承架上，所述承架并且具有一開口，所述的發光二極管光源及反射組件對應設置于所述開口的兩側，以及所述的光學模塊透過所述開口接收從所述待掃描文件反射的所述光線。

4.如權利要求3所述的掃描模塊，其特征在于，所述掃描模塊還包括：

第一吸光片，設置于所述承架上，且位于所述發光二極管光源的上方；及

第二吸光片，設置于所述承架上，且位于所述反射組件的上方。

5.如權利要求3所述的掃描模塊，其特征在于，所述掃描模塊還包括：

反光片，設置于所述承架上，并且位于所述發光二極管光源的一側，所述反光片的反光面朝向所述發光二極管光源，所述反光片用以反射部分所述光線。

6.如權利要求3所述的掃描模塊，其特征在于，所述掃描模塊還包括：

間隔物，設置于所述發光二極管光源及所述承架之間，用以調整所述發光二極管光源與所述承架之間的距離，以改變所述光線于所述發光二極管光源與所述反射組件之間的光路長度。

7.如權利要求1所述的掃描模塊，其特征在于，自所述發光二極管光源發射出的所述光線是以垂直于所述待掃描文件平面的方向投射于所述反射組件。

8.如權利要求7所述的掃描模塊，其特征在于，所述掃描模塊還包括：

承架，所述發光二極管光源及反射組件設置于所述承架上，且所述反射組件設置在所述發光二極管光源的下方。

9.如權利要求7所述的掃描模塊，其特征在于，所述反射組件具有第一反射面及第二反射面，所述第一反射面鄰接所述第二反射面；

其中，自所述發光二極管光源發射出的光線先經過所述第一反射面反射后，再經過所述第二反射面反射，接著才投射于所述待掃描文件。

10.如權利要求9所述的掃描模塊，其特征在于，所述第一反射面為平面式反射面或朝向所述發光二極管光源的凹面式反射面。

11.如權利要求9所述的掃描模塊，其特征在于，所述第二反射面為平面式反射面或朝向所述發光二極管光源的凹面式反射面。

12.如權利要求9所述的掃描模塊，其特征在于，所述第一反射面及所述第二反射面均為朝向所述發光二極管光源的凹面式反射面。

13.如權利要求8所述的掃描模塊，其特征在于，所述掃描模塊還包括：

至少一個吸光片，設置于所述承架上鄰近于所述發光二極管光源或鄰近于所述反射組件之處。

14.如權利要求1所述的掃描模塊，其特征在于，所述反射組件具有光線勻化結構，形成于所述反射組件朝向所述發光二極管光源的表面，用以均勻化所述光線。

15.如權利要求14所述的掃描模塊，其特征在于，所述光線勻化結構包括多個網點。

16.如權利要求15所述的掃描模塊，其特征在于，所述發光二極管光源包括長條形電路板與多個發光二極管，這些發光二極管數組式地配置于所述長條形電路板上，所述些網點對應于配置有所述發光二極管之處的密度高于對應于無配置有所述發光二極管之處的密度。

17.如權利要求14所述的掃描模塊，其特征在于，所述發光二極管光源包括長條形電路板與多個發光二極管，這些發光二極管數組式地配置于所述長條形電路板上，所述的光線勻化結構包括至少凸塊，所述凸塊位于所述表面上對應于配置有所述發光二極管之處。