[實(shí)用新型]芯片中模擬開(kāi)關(guān)控制電路有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200820056450.2 | 申請(qǐng)日: | 2008-03-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN201185410Y | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-01-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 戴忠偉 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 廣芯電子技術(shù)(上海)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H03K17/687 | 分類(lèi)號(hào): | H03K17/687 |
| 代理公司: | 上海智信專(zhuān)利代理有限公司 | 代理人: | 胡美強(qiáng) |
| 地址: | 200030上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 模擬 開(kāi)關(guān) 控制電路 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種芯片,尤其涉及該芯片中開(kāi)關(guān)控制電路。
背景技術(shù)
由圖1可見(jiàn):現(xiàn)有技術(shù)中CMOS開(kāi)關(guān)由兩部分組成,NMOS管N1和PMOS管P1,NMOS的開(kāi)關(guān)是由柵極2的電壓高低決定。工作中NMOS管N1柵極2拉到高電平VDD,NMOS管N1打開(kāi),柵極2拉到低電平GND,NMOS關(guān)斷,PMOS管P1的柵極5拉到低電平GND,PMOS管P1打開(kāi),柵極5拉到高電平VDD,PMOS管關(guān)斷。
由于采用P-襯底的CMOS工藝,所以NMOS管的襯底為P-4始終接地GND而PMOS管的襯底6是N阱,它的電壓是浮動(dòng)的.目前普遍的設(shè)計(jì)是接VDD或接它的源3端;如果接了它的源端,PMOS管的開(kāi)啟電壓VTP會(huì)降低,相應(yīng)的PMOS管的導(dǎo)道電阻會(huì)變小,這對(duì)開(kāi)關(guān)導(dǎo)通是有利的;可是這樣連接也帶來(lái)一個(gè)問(wèn)題.開(kāi)關(guān)在關(guān)斷時(shí)(5接VDD)由于1.3端電壓的不確定,就有可能造成1端比3端電壓高,這樣的結(jié)果是1端到N阱6端的二極管就會(huì)導(dǎo)通形成通路,開(kāi)關(guān)就無(wú)法關(guān)斷;如果將6端接到1端,也會(huì)有同樣的情況發(fā)生。另外一種線路結(jié)構(gòu)就是將N阱6接VDD(圖2),這樣在關(guān)斷時(shí)就不會(huì)出現(xiàn)以上的漏電現(xiàn)象。但這樣可能直接會(huì)產(chǎn)生另一個(gè)不好的效果:當(dāng)開(kāi)關(guān)導(dǎo)通時(shí)(5接GND),由于N阱6接VDD,1腳和3腳的電壓會(huì)從GND變化到VDD,這樣就會(huì)使PMOS管的開(kāi)啟電壓VTP由于襯底效應(yīng)而增大,從而使PMOS管的導(dǎo)通電阻變大,且導(dǎo)通電阻變化范圍也變大,從而影響電阻的平坦度。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型需要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供了一種芯片中模擬開(kāi)關(guān)控制電路,旨在解決上述問(wèn)題;
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
本實(shí)用新型包括:第一NMOS管、第一PMOS管;還包括:第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管;所述的第二PMOS管和第三PMOS管的柵極與第一PMOS管的柵極相接,所述的第二PMOS管和第三PMOS管的源極和襯底相連,并與第一PMOS管的襯底和第四PMOS管的漏極相接;第二PMOS管和第三PMOS管的漏極分別和第一PMOS管的源極和漏極相連;第四PMOS管的源極與VDD相接。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:使開(kāi)關(guān)關(guān)斷后的漏電路減低到了最小,使開(kāi)關(guān)打開(kāi)后的導(dǎo)通電阻最小,電阻的平坦度最好。
附圖說(shuō)明
圖1是現(xiàn)有模擬開(kāi)關(guān)一種線路示意圖;
圖2是現(xiàn)有模擬開(kāi)關(guān)另一種線路示意圖;
圖3是本實(shí)用新型的線路示意圖;
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述:
由圖3可見(jiàn):本實(shí)用新型包括:第一NMOS管、第一PMOS管;還包括:第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管;所述的第二PMOS管和第三PMOS管的柵極與第一PMOS管的柵極相接,所述的第二PMOS管和第三PMOS管的源極和襯底相連,并與第一PMOS管的襯底和第四PMOS管的漏極相接;第二PMOS管和第三PMOS管的漏極分別和第一PMOS管的源極和漏極相連;第四PMOS管的源極與VDD相接。
本實(shí)用新型在PMOS管P1的襯底6和PMOS的源、漏(1.3)間增加了兩個(gè)PMOS管(P2.P3).同時(shí)將襯底和VDD間通過(guò)另外一個(gè)PMOS管P4連在一起。
本實(shí)用新型的工作原理:當(dāng)PMOS管P1打開(kāi)時(shí)即柵極5接低電壓GND時(shí).同時(shí)P2和P3也打開(kāi).這樣P1的襯底和P1的源、漏(1.3)連在一起.從而消除了襯底效應(yīng).使導(dǎo)通電阻減小,并提高了導(dǎo)通電阻的平坦度,當(dāng)開(kāi)關(guān)關(guān)斷時(shí),即PMOS管P1的柵極5接高電平VDD時(shí),P1、P2、P3都關(guān)斷,同時(shí)P4打開(kāi),這樣P1的N阱襯底通過(guò)P4被拉到VDD,這樣當(dāng)1.3腳的電壓在GND到VDD間變化時(shí),P1的襯底始終接高電壓VDD,這樣就避免了PMOS管P1襯底的漏電流,使開(kāi)關(guān)關(guān)斷后的漏電路減低到了最小。
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