[實用新型]雙光束在線實時測量光學薄膜應力的裝置

無效

• 申請號: 200820056374.5
• 申請日: 2008-03-19
• 公開（公告）號: CN201173895Y
• 公開（公告）日: 2008-12-31
• 發明（設計）人: 朱冠超;方明;申雁鳴;易葵
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17;G01B11/06;G06F19/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司
• 代理人: 張澤純

1、一種雙光束在線實時測量光學薄膜應力的裝置，其特征在于該裝置包括半導體激光器(1)、由分束鏡(2)與第一反射鏡(3)和第二反射鏡(4)組合而成的雙光束分束準直器、第三反射鏡(5)、具有晶控探頭(7)的晶控儀(8)、位敏光電探測器(11)、A/D采集卡(10)和計算機(9)，其位置關系如下：在鍍膜機外設置所述的半導體激光器(1)、雙光束分束準直器，晶控儀(8)、位敏光電探測器(11)、A/D采集卡(10)和計算機(9)，在真空室內安設待測的鍍膜基片(6)、所述的第三反射鏡(5)和晶控探頭(7)，使所述的半導體激光器(1)的出射光經所述的雙光束分束準直器后變成兩束平行光，由鍍膜機真空室的觀察窗口照射到待測的鍍膜基片(6)表面，其反射光經所述的第三反射鏡(5)反射后從所述的觀察窗口出射到真空室外的位敏光電探測器(11)上，該位敏光電探測器(11)探測的反射光位移偏轉量由A/D采集卡(10)輸入到計算機(9)；同時所述的晶控探頭(7)實時記錄鍍制光學薄膜過程中薄膜厚度和沉積速率的變化，由所述的晶控儀(8)輸入所述的計算機(9)。