[實用新型]一種染片機反應缸清洗裝置

有效

• 申請號: 200820048768.6
• 申請日: 2008-06-04
• 公開（公告）號: CN201225972Y
• 公開（公告）日: 2009-04-22
• 發明（設計）人: 姚斌
• 申請（專利權）人: 姚斌
• 主分類號: G01N1/31
• 分類號: G01N1/31
• 代理公司: 廣州新諾專利商標事務所有限公司
• 代理人: 華 輝

1.一種染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，包括一用于盛裝清洗用試劑的試劑缸及將所述試劑缸內試劑輸送到反應缸的試劑輸送裝置，還包括一廢液缸及將所述反應缸內廢液輸送到廢液缸的廢液輸送裝。

2.根據權利要求1所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述試劑輸送裝置為真空抽吸裝置，包括一真空發生器以及試劑輸送管道，所述真空發生器輸出端與反應缸連接，所述試劑輸送管道一端與反應缸連接，另一端活動設置并置于所述試劑缸內。

3.根據權利要求2所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述廢液輸送裝置包括一微小氣缸以及廢液輸送管道，所述微小氣缸輸出端與反應缸連接，所述廢液輸送管道一端與反應缸連接，另一端活動設置于廢液缸內。

4.根據權利要求3所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，還包括有一廢氣凈化裝置，所述廢氣凈化裝置包括一乙醇試劑缸和一活性炭盛裝裝置，所述乙醇試劑缸兩端分別用氣管與反應缸和活性碳盛裝裝置連接。

5.根據權利要求3所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，還包括一用于盛裝熱水以溶解反應缸內殘蠟的大水缸，所述大水缸通過管道與所述反應缸連接，且該連接管道上設置有閥門。

6.根據權利要求5所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述大水缸內設置有加熱裝置、第一限位裝置以及溫控裝置。

7.根據權利要求6所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述加熱裝置為一電加熱板，所述電加熱板設置于大水缸底部。

8.根據權利要求7所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述溫控裝置為一溫度檢測開關，與所述加熱裝置電路串聯連接。

9.根據權利要求1所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述試劑缸包括小水缸和二甲苯試劑缸。

10.根據權利要求9所述的染片機反應缸清洗裝置，其特征在于，所述小水缸內設置有第二限位裝置。