[實(shí)用新型]液晶板實(shí)現(xiàn)掩膜版載體的光刻裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200820028195.0
• 申請(qǐng)日: 2008-01-25
• 公開（公告）號(hào): CN201156160Y
• 公開（公告）日: 2008-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安理工大學(xué)
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 西安弘理專利事務(wù)所
• 代理人: 羅笛

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種液晶板實(shí)現(xiàn)掩膜版載體的光刻裝置。

背景技術(shù)

掩膜版在光刻中所扮演的角色就像印刷中的模版，可重復(fù)不斷地將所需要的圖形復(fù)制出來，一塊光刻掩膜版就是一塊普通玻璃或石英玻璃，玻璃的一面印有以金屬鉻為顏料的幾何圖形。光刻掩膜版主要用于半導(dǎo)體制造中的光刻工藝，通過光學(xué)曝光，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上，以便在硅片上進(jìn)行選擇性摻雜、互連，從而制成半導(dǎo)體器件和集成電路。在生產(chǎn)過程中需要多個(gè)光刻版，如果頻繁的輪換使用多個(gè)透明物質(zhì)光刻版，就會(huì)使得光刻版制作量大，更換的操作工藝復(fù)雜，表面也可能沾上灰塵，其最大的缺點(diǎn)就是一旦某個(gè)光刻版上面沾上一點(diǎn)灰塵，如果檢測(cè)不到位就會(huì)導(dǎo)致影響整批產(chǎn)品的質(zhì)量。因此，研制能使通過自身圖形變化實(shí)現(xiàn)多個(gè)光刻版的功能的光刻裝置，并且能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)化精確檢測(cè)操作功能成為必需。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種液晶板實(shí)現(xiàn)掩膜版載體的光刻裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中需要制作使用多個(gè)掩膜版，操作工藝復(fù)雜，自動(dòng)化檢測(cè)能力低的問題。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案是，一種液晶板實(shí)現(xiàn)掩膜版載體的光刻裝置，依次包括照射部分、液晶板、CCD檢測(cè)器、透鏡組和覆有光刻膠的硅片，所述照射部分、液晶板、CCD檢測(cè)器、透鏡組和硅片同軸設(shè)置并且之間留有間距，所述的硅片固定于一精密工作臺(tái)上，所述的精密工作臺(tái)可沿X、Y向直線運(yùn)動(dòng)。

照射部分由反光鏡、投影燈、隔熱板和聚焦鏡依次按照一定的間距設(shè)置組成。

照射部分設(shè)置有散熱裝置。

照射部分、液晶板和CCD檢測(cè)器處設(shè)置有散熱裝置。

液晶板選用扭曲向列型液晶。

本實(shí)用新型的有益效果是利用活性液晶板作為掩膜版的載體，省去了掩膜版的制作過程，并且使其自身表面潔凈度的檢測(cè)變得非常簡(jiǎn)單，一旦自身表面沾有灰塵或劃傷就會(huì)很方便被檢測(cè)出來，從而終止光刻過程，明顯節(jié)約了時(shí)間和成本。

附圖說明

圖1是傳統(tǒng)接觸式光刻示意圖；

圖2是傳統(tǒng)非接觸式光刻示意圖；

圖3是傳統(tǒng)投影式光刻示意圖；

圖4是傳統(tǒng)掩模版基本構(gòu)造示意圖；

圖5是本實(shí)用新型裝置實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1、光源，2、透鏡組，3、掩模版，4、光刻膠，5、硅片，6、掩模版保護(hù)膜，7、石英玻璃，8、光阻層鉻膜，9、反光鏡，10、投影燈，11、隔熱板，12、聚焦鏡，13、散熱扇a，14、液晶板，15、CCD檢測(cè)器，16、散熱扇b，17、精密工件臺(tái)，18、中心軸線。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。

圖1、圖2、圖3均是傳統(tǒng)光刻方式示意圖。圖1中光源1的光線經(jīng)過透鏡組2的折射后，變成平行光線，透過掩模版3，照射到光刻膠4從而實(shí)現(xiàn)硅片5的光刻過程。圖2中，在掩模版3和光刻膠劑4之間設(shè)置了一定的間距從而防止掩膜版3劃傷。圖3中在掩模版3和光刻膠4之間又設(shè)置了一組透鏡組2，對(duì)照射的光線進(jìn)行更加精確的控制。這些傳統(tǒng)光刻方式都比較簡(jiǎn)單，但是制作和更換掩模版3的工作量大，制作成本高，產(chǎn)品合格率低。

圖4是傳統(tǒng)掩膜版基本構(gòu)造示意圖。包括在石英玻璃7上一面設(shè)置有掩膜版保護(hù)膜6，掩膜版保護(hù)膜6實(shí)現(xiàn)對(duì)石英玻璃7的保護(hù)，石英玻璃7的另一面設(shè)置有光阻層鉻膜8。以金屬鉻為顏料的幾何圖形實(shí)現(xiàn)掩膜版功能。

圖5是本實(shí)用新型裝置實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。沿著中心軸線18，從左至右依次按照一定的間距設(shè)置有照射部分、液晶板14、CCD檢測(cè)器15、透鏡組2和覆著光刻膠4的硅片5，所需要光刻的硅片5設(shè)置在精密工作臺(tái)17上。其中照射部分包括反光鏡9、投影燈10、隔熱板11、聚焦鏡12。由于光源發(fā)光的同時(shí)會(huì)放出大量的熱量，故設(shè)置透明的隔熱板11阻止熱量以免損壞液晶板14。為了保證整個(gè)裝置的散熱，還設(shè)置有針對(duì)照射部分的散熱扇a13和針對(duì)液晶板14和CCD檢測(cè)器15的散熱扇b16。CCD檢測(cè)器15由計(jì)算機(jī)控制，檢測(cè)時(shí)進(jìn)入液晶板14和透鏡組2之間的位置，對(duì)液晶板14表面進(jìn)行潔凈度的檢測(cè)，檢測(cè)結(jié)束退出液晶板14和透鏡組2之外，不影響光刻的正常進(jìn)行。精密工作臺(tái)17可以在XY方向自由移動(dòng)，用于工作中硅片5的工作位置的自由移動(dòng)和準(zhǔn)確定位，精密工作臺(tái)17也由計(jì)算機(jī)協(xié)調(diào)控制其的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)。精密工作臺(tái)主要負(fù)責(zé)在光刻過程中硅片的平面移動(dòng)從而實(shí)現(xiàn)整個(gè)硅片的光刻過程。