[實用新型]足部按摩保健浴盆

無效

• 申請號: 200820026423.0
• 申請日: 2008-07-26
• 公開（公告）號: CN201239064Y
• 公開（公告）日: 2009-05-20
• 發明（設計）人: 韓長征
• 申請（專利權）人: 韓長征
• 主分類號: A47K3/022
• 分類號: A47K3/022;A61H7/00
• 代理公司: 濟寧宏科利信專利代理事務所
• 代理人: 樊慶年;張景宏

技術領域：

本實用新型涉及足部按摩裝置，尤其涉及足部按摩保健浴盆。

背景技術：

熱水泡腳、足部穴位按摩，是中醫傳統療法的重要組成部分，足部按摩能調整和維持人體內部平衡，改善血液循環及微循環，提高人體免疫功能，增強組織器官的新陳代謝，從而達到防病治病的目的。但目前公知的普通洗腳盆大都只能用于洗腳，對腳部沒有按摩保健作用，因此，不能滿足人們在洗腳的同時，又能全過程進行足部保健按摩的需求.

實用新型內容：

本實用新型的目的在于，克服現有技術的不足之處，提供一種結構簡單，使用方便的足部按摩保健浴盆。

本實用新型所述的足部按摩保健浴盆，涉及有盆體和按摩凸起構成，所說的盆體是用來承裝浴腳液體的容器，盆體的橫截面為梯形狀，在所說盆體的內部的底面上均勻設置有按摩凸起，所說的按摩凸起的高度不同，在所說的足部按摩保健浴盆的盆底邊緣部分的按摩凸起較低，盆底中央部分的按摩凸起較高。盆底邊緣部分按摩凸起的高度為0.5厘米，在盆體底面中央的按摩凸起的高度高于四周的按摩凸起，盆體底面中央的按摩凸起的高度為1厘米，各按摩凸起之間的距離為1厘米，以便使腳部腳弓凹陷部分在浴洗過程中得到充分按摩。

本實用新型所述的足部按摩保健浴盆，結構簡單，使用方便，該保健浴盆能調整和維持人體內部平衡，改善血液循環及微循環，提高機體免疫功能，增強組織器官的新陳代謝，從而達到防病治病的目的。

附圖說明：

附圖是本實用新型所述足部按摩保健浴盆的結構示意圖。1—盆體2—按摩凸起

具體實施方式：

現參照附圖1，結合實施例說明如下：本實用新型所述的足部按摩保健浴盆，涉及有盆體1和按摩凸起2構成，所說的盆體1是用來承裝浴腳液體的容器，盆體1的橫截面為梯形狀，在所說盆體1的內部的底面上均勻設置有按摩凸起2，所說的按摩凸起2的高度不同，在所說的足部按摩保健浴盆的盆底邊緣部分的按摩凸起2較低，盆底中央部分的按摩凸起2較高。盆底邊緣部分按摩凸起2的高度為0.5厘米，在盆體1底面中央的按摩凸起2的高度高于四周的按摩凸起2，盆體1底面中央的按摩凸起2的高度為1厘米，各按摩凸起2之間的距離為1厘米，以便使腳部腳弓凹陷部分在浴洗過程中得到充分按摩。本實用新型所述的足部按摩保健浴盆，結構簡單，使用方便，該保健浴盆能調整和維持人體內部平衡，改善血液循環及微循環，提高機體免疫功能，增強組織器官的新陳代謝，從而達到防病治病的目的。